日本の装置メーカーによるALDの取り組みは、東京エレクトロンさん、日立国際さんやASMさんの開発部隊の方のような世界的なプレーヤーが牽引してきましたが、先端半導体のような情報は表に出てこないため、見えづらいものがあったかと思います。

研究用装置は欧米に独占されてきた経緯がありますが、中堅の国内装置メーカー様であるアルバックさんやSAMCOさんは最近になって装置プロセス開発に乗り出してきた状況です。その間隙でいくつかの国内メーカーがALD装置を販売されてきておりましたが、、、最近見学させてもらったある装置を見て愕然とした状況で。。。本来競合のことをとやかく言うのは恥ですが、率直に申し上げると、このまま放っておくと研究現場に更に迷惑がかかる可能性が出てくるので、私見をメモしておこうと思います。

S製作所(北海道)について
某研究所にて、このメーカーが2014年に製造販売した装置を見学。この装置は非常に稚拙です。少なくとも2014年までに半導体用に真空プロセス装置を開発した経験は全くないと明言できます。お客様もALD装置を購入しておきながらCVD膜をつけているという有様。装置そのものの改造の必要性を指摘させて頂きました。
あえて申し上げたいのは、普通日本の開発者は模倣するにしても更なる工夫を盛り込もうとするのに、模倣どころか基本的な研究もせずにもっとひどい装置を販売しているということ。ここは本当に善処してもらわないと、既に納入した装置も無償でアップグレードするくらいの覚悟でやってもらわないと日本の研究が遅れることになります。200台以上販売して倒産したCambridge Nanotech社がどういう状況だったか、一考に値すると思うのです。

誰もがALDの開発ではAl2O3から開発を開始すると思いますが、このアルミナはプロセスウインドウが非常に広いので、ALDの原理を再現しやすいのです。しかし他の材料になるとプロセスウィンドウが狭かったりし、ハードウエアのきちんとした作り込みが必要です。