nanotech2019展にて弊社のお客様である塚越先生と生田目先生よりALDを使ったDRAMキャパシタや強誘電体製造プロセスの資料を頂きました。掲載致します。
Al2O3, TiO2, RuO2, ZrO2, HfO2, HZO ALD

生田目先生は日本におけるALDの代表的な研究者のお一人です。なお、先生方は共同研究をご希望されている方も探しておられます。