全体としては盛況でしたが、日本からの参加者は例年並みに少ないながらも大阪大学浜口智志先生（ご発表内容：ALE）、東北大学熊野勝文先生、名古屋大学グエン先生（ご発表内容：ALE）、東京大学小林正文先生（ご発表内容：先端半導体のデバイス構造）が参加されておりました。
また昨今の米中問題からか、中国からの参加者は大きく減少している様子でした。
ChairをされていたCarlton大学のSean Barry 先生に写真を撮らせてもらいました。

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Barry先生はハーバード大学のGordon先生の元で学んだのち、Carlton大学で研究を重ねられ、様々なプリカーサーを開発しております。特筆べきは化学に身を捧げていることが、下記写真のように、よく分かります（笑）。刺青を推奨はしませんが、Barry先生のような使い方であれば、生き様を宣言したかっこいい使い方と思います。
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カテゴリー: ALD 国際学会　ALE、研究者

2023/06/23 / 最終更新日時 : 2023/06/23 ALD_Japan セミナー

ウェビナー紹介「ＡＬＤ（原子層堆積法）技術の基礎・入門と応用展開」

奈良先端科学技術大学院大学の教授浦岡行治氏がALDに関するライブ配信セミナー（Zoom）を行います。

日時: 2023年6月28日(水曜) 10:00〜16:00

https://www.science-t.com/seminar/A230648.html

カテゴリー: セミナー、半導体、太陽電池、研究者

2023/06/20 / 最終更新日時 : 2023/06/20 ALD_Japan 半導体

ALDを使用した先端半導体デバイス向けナノシート酸化物半導体トランジスタの開発

奈良先端科学技術大学院大学の浦岡行治先生と東京大学生産技術研究所の小林正治先生によりIn2O3とGa2O3を原子層堆積したマルチレイヤーで良好な酸化物半導体を見つけられたとのことです。これは先端デバイスでのGate All Around構造で使う半導体で、大いに期待されます。東京大学の発表資料は以下より。

https://www.iis.u-tokyo.ac.jp/ja/news/4233/

カテゴリー: 半導体、研究者

2023/05/31 / 最終更新日時 : 2023/05/31 ALD_Japan 半導体

ASM社の韓国への投資$100M

オランダの半導体向けALD装置などのメーカーASM社が韓国へ100Mドル（約140億円）を2025年までに投資するとのこと。敷地を2.5倍（製造エリアは3倍）に拡張し、人員も現在の450名から大きく増やす方向とのこと。韓国の国策としての半導体大国化に、リソグラフィーのASML社も工場を建設との発表がありましたが、ASM社も乗った形となりました。現在半導体の価格下落と不景気がニュースになっておりますが、情報量は相変わらず爆発している訳で、そのための布石なのですね。
https://www.asm.com/press-releases/2673894