ALD2015 Preview その4

7月1日(3日目)

成膜材料   アプリケーション        備考
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< ALD成長と個別化 >
AlP               ?                             プラズマ
SrTiO2          DRAMキャパシター        {Sr(demamp)(tmhd)}
InN               ?                                プラズマ
GaN             LED/パワーデバイス        電子支援(電子ビーム?)
Nb-TiO2       透明導電膜
SiO2            ?                                 Di-sec-butylaminosilane & オゾン

High-k         ?                                  グラフェン上
KxNa(1-x)NbO3   ?
BN               ?                                 Atomic Layer Epitaxy
TiO2/Al2O3   LED/パワーデバイス

SiOx/SiNx    ?
?                 ?                                  Electrochemical ALD (“E-ALD”)
SiNx            ?
Pt                ?
?                 プリンテッドエレクトロニクス ”SALD” ??
LaOx            ?
?                  バリアー層       大気圧プラズマ

Ru                ?
NiTiO3          ?                                  エピタキシャル
H-In2O3       ?

フッ化金属     ?                                   金属プレカーサーとHF
酸化金属        ?                                   ポリメチルメタンアクレートテンプレートを使用したナノ構造物形成
Cu and CuOx   ?                                Copper (II) Acetylacetonate
FeOx            ?                                   低温、H2Oプレカーサ
BaO & BaTiO3  半導体
TiO2                                                 Titanium Tetraisopropoxide / 水

成膜材料      アプリケーション        備考
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< 新規物質 >
Tincone             透明導電膜?                  MLD, SnO2/C
?                        ?                                メタル含有酸化グラフェンメンブレン
?                  触媒          触媒の安定化

< ナノ構造 >
– テンプレート支援のGaNナノ構造体形成(ホローカソードプラズマ)
– 炭素質材テンプレートを使用したナノポーラスPtや酸化金属の作成
– シングル電子トランジスターのためのALD-SiO2/Al2O3
– エリア選択ALD-Co
– 高アスペクトTiO2 やSiO2ナノ構造グレーティング
– エリア選択ALD-ZnO
– WSe2の合成
–  ZnOナノワイヤー

– TiN/HfO2
– TiO2, SiO2, Al2O3 を使ったナノチューブ、ナノコーン、ナノチューブネットワーク
– エリア選択ALD

< 量産技術 >
–  ガス流れの種々条件下での広い表面積をカバーするALD
–  3次元NAND Flash用の高アスペクト比構造用のALD-LaOx/LaAlOx
–  SiO2, プラズマALD
– 回転型Spatial(空間的)プラズマALD
– 粉体への大気圧Spatial ALD
– 熱式とプラズマ式のAlN, SiNxのALDの商業化
–  ALD用CCTBA 蒸気輸送
– メタル成膜の高速化のための連続的成膜方法

成膜材料   アプリケーション        備考
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< エネルギー >
V-InS            太陽電池
Cu-ZnO         燃料電池          触媒(水素発生)、CNT, MLD
Cu2S            太陽電池        キャリアー制御、高寿命化
Pd                リチウム酸素電池    Pdナノパーティクル、ZnOパッシベーション化多孔質炭素
?                  CIGS太陽電池

成膜材料   アプリケーション        備考
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< ULSI FEOL/BEOL >
Mn                インターコネクト
Ru-Mn           拡散バリアー
ZnO               III-V族半導体     パッシベーション
Ferroelectric HfO2  新型半導体?
ZrO2              ?                               Yドーピング、酸素の制御
?                   キャパシター       Metal-Insulator-insulator-metal
?                    ?                               ナノラミネート絶縁体

AlSiOx            III-V族半導体
Ru                  ?
SiNx               ?                               低温プラズマ、密度、エッチレート

以上。

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