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2015/09/10 / 最終更新日時 : 2015/09/10 ALD_Japan 未分類

TMAの自然発火の様子

YouTubeで見つけたTMAが燃える様子です。 https://www.youtube.com/watch?v=RfeaffoWajc

2015/07/22 / 最終更新日時 : 2015/07/22 ALD_Japan 未分類

セミナー紹介 3D Cool ALD

日時:9月17日木曜13:00〜16:30 場所:東京・品川区大井町 きゅりあん 主催:サイエンス&テクノロジー 詳細:こちらをクリック下さい。 山形大学の廣瀬文彦先生による”3D Cool ALD”(室温3 […]

2015/07/13 / 最終更新日時 : 2015/07/13 ALD_Japan 未分類

セミナー紹介 光学用の薄膜

日時:7月23日 場所:ハイライフプラザ板橋 主催:光設計研究グループ 昭和真空社様が低温プラズマALDに関する発表をされるようです。

2015/06/23 / 最終更新日時 : 2015/06/23 ALD_Japan 未分類

ALD2015 の見どころ

ポスターセッションでの発表は記載しませんでしたが、Previewとして口頭発表の議題を材料やアプリケーションなどから列挙してみました。なぜ「?』マークだらけのこんな作業をしたかというと、ALDの代表的な酸化膜や金属膜はも […]

2015/06/22 / 最終更新日時 : 2015/06/22 ALD_Japan 未分類

ALD2015 Preview その4

7月1日(3日目) 成膜材料   アプリケーション        備考 ———      ——————&#821 […]

2015/06/22 / 最終更新日時 : 2015/06/22 ALD_Japan 未分類

ALD2015 Preview その3

6月30日(2日目) 成膜材料   アプリケーション        備考 ———      ——————&#82 […]

2015/06/18 / 最終更新日時 : 2015/06/18 ALD_Japan 未分類

ALD2015 Preview その2

ALD2015のスケジュールは以下のサイトで確認できます。試しにタイトルだけから把握できるところで、材料とアプリケーションを軸に羅列し直してみました。(リアルタイム観察やシュミレーションの発表とポスター発表は除きます。) […]

2015/06/12 / 最終更新日時 : 2015/06/12 ALD_Japan 未分類

ALD2015 Preview その1

今回のALD2015国際学会で興味深そうな案件(主観です!)を列挙しておこうと思います。 ALE Workshop、つまりAtomic Layer Etchingという原子層をエッチング(除去)する技術の専門部会が設けら […]

2015/04/30 / 最終更新日時 : 2015/04/30 ALD_Japan 未分類

6月28日から国際学会「ALD2015」開催

毎年恒例のALD技術を討議する国際学会「ALD2015」が6月28日から7月1日の間、米国オレゴン州のポートランドで開催されます。 今年は原子レベルのレイヤーをエッチングする技術、ALE (Atomic Layer Et […]

2015/04/24 / 最終更新日時 : 2015/04/24 ALD_Japan 未分類

Spacial ALD (空間的ALD) – コスト低減化へ

前回からの続きで、低コスト化への解としてSpacial ALD と呼ばれる新たな潮流の技術について解説します。(Picosun社が半導体ベースの装置を改良して、ロール2ロール型の装置も改良しておりますが、それよりもっと低 […]

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2022/07/21 / 最終更新日時 : 2022/07/22 ALD_Japan ALD 国際学会 ALE

Dr. Mikko Ritala

先日開催されたALD/ALE2022にて、2020年のInnovation Awardを受賞されたMikko Ritala先生の写真です。受賞記念のスピーチで先生は学生時代にこのALD技術に魅せられて、ハマってしまったと受賞して壇上でお話されていたのが印象的でした。ご所属がUniversity of Helsinkiとフィンランドで、フィンランドでのALDの基礎を引っ張られたことと思いますが、日本のメーカーとの共同開発も過去には実施したようです。様々なプリカーサー原材料の開発もされて、今後もこの分野に大きく御貢献されていくと思います。写真では分かりにくいですが、とても背が高い方です。

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ALD 国際学会 ALE、ALE、研究者
2022/07/05 / 最終更新日時 : 2022/07/21 ALD_Japan ALD 国際学会 ALE

ALD/ALE2022 まとめ

先週6月26日から6月29日までベルギーのGhentで行われたALD2022に参加してきました。簡単にまとめを記載しておこうと思います。

1)オンラインはなくリアルでの開催でした。参加登録人数は750人以上。(内訳:アジア:142人(21%)、オーストラリア:1人、ヨーロッパ:401人(58%)、米国:143人(21%)データ元は最終日のClosing Remarkで発表された数字)

日本からはデバイスメーカー、装置メーカー、材料メーカーの人が散見されましたが、常連の大学の先生方がコロナ下で参加を見送られたせいか少なかったようです。大阪大学の浜口先生がALEのComitteeメンバーとして司会されていたのは心強かったです。

2)半導体では、相変わらずArea Selective Depositionの話が多く、期待の高さが伺われた。(ただ基調講演でも、実際に使われるのか?という質問が出て、製造への利用は未知でもある印象も残りました。)また2次元材料も次世代デバイス技術へとしての期待からか、発表数は例年より多かったと思います。

3)注目技術: Spacial ALDをノズルの先端に取り付けた3次元プリンターの発表が大いに注目されていました。ALTANTA 3D nanosystems社です。実際CEOの方はCommittee メンバーにも既に入り、司会進行もされておりました。

4)その他としては、 MLDとALDを融合したハイブリッドな成膜の発表も増えておりました。またInfiltration(浸潤)で有機材の表面にプリカーサーが染み込むことを利用した表面改質の発表も増えておりました。粉体用ALDの発表はかなり減っていた印象です。

5)来年の米国開催は通常として、2年後はフィンランドに決まったそうです。本来ならヨーロッパ開催の2年後はアジアのはずなのですが、残念です。

なお、基調講演以外は4つのセクションに分かれるため、全てを聴講をすることは不可能で、上記はかなり偏りのある見方です。

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ALD 国際学会 ALE
2022/06/21 / 最終更新日時 : 2022/06/21 ALD_Japan 未分類

アプライドマテリアルズ社のPicosun社買収

米国の大手半導体装置メーカーApplied Materials社がフィンランドのALDの老舗装置メーカーPicon社を買収したそうです。日本のKOKUSAI社の買収が拒絶された後ですが、なかなかのダイナミックな動きですね。さすがです。

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未分類
2022/06/14 / 最終更新日時 : 2022/06/14 ALD_Japan 半導体

ALDによる強誘電体メモリー

奈良先端科学技術大学院大学の浦岡行治先生が東京大学の小林正治先生と共に強誘電体メモリーを開発している研究が記事になっております。
https://eetimes.itmedia.co.jp/ee/articles/2206/13/news044.html#utm_medium=email&utm_source=ee-elemb&utm_campaign=20220614

強誘電体HfZrO2も酸化物半導体In2O3もALDで成膜されております。

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半導体、研究者
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強誘電体
2022/06/01 / 最終更新日時 : 2022/06/01 ALD_Japan プリカーサー

シンポジウム紹介「ワイドバンドギャップ新材料の開拓」

CVD反応分科会(弊社もメンバー)主催にて、次世代パワーデバイス用ワイドバンドギャップ新材料開発の進展に関してオンラインシンポジウムを7月1日(金曜)に開催されます。ALD的には窒化ガリウムや酸化ガリウム用のプリカーサーが高純度化学研究所様より発表されます。詳細案内はこちらにて。

カテゴリー
プリカーサー、半導体、研究者
2022/05/23 / 最終更新日時 : 2022/05/23 ALD_Japan ALE

ウェビナー紹介「ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング(ALD)の最新技術動向

大阪大学 大学院工学研究科 教授 浜口 智志 氏がALEに関するライブ配信セミナー(Zoom)を行います。

日時: 2022年6月6日(月曜) 10:30〜16:30

https://www.science-t.com/seminar/B220606.html

カテゴリー
ALE、セミナー、研究者
2022/05/18 / 最終更新日時 : 2022/05/18 ALD_Japan 半導体

BENEQ社

フィンランドにあるALD装置メーカーBENEQ社について、少し説明しようと思います。フィンランドは元々ALD技術の発見に起代する場所です。ALDのメーカーとしては、比較的長い歴史を持ちます。以前は商社がここの代理店をしておりましたが、昨年日本法人を設立されました。先日行われた「レンズ・製造展」(OPIE ’22展併設)に出展しており、特筆すべきは世界最大のチャンバーとなる型式 P1500です。基板を搭載する空間が1300 x 2400 x 750mm、(チャンバーの横幅 1700mm)、装置のサイズは6195 x 2480 x 2600mmです。(大きいですね!)おそらく巨大な望遠鏡などに使用するレンズへの成膜に使うと思われます。サイトを見る限り、対象アプリケーションは光学薄膜、ディスプレイ、化合物半導体のようです。

日本法人の連絡先が英語表記で少し分かりにくいので、電話番号だけ記しておきます。TEL:045-285-9438

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半導体、太陽電池、装置メーカー
2022/05/11 / 最終更新日時 : 2022/05/11 ALD_Japan ALE

ウェビナー紹介「ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用」

奈良先端科学技術大学院大学の浦岡先生がALDとALEに関するライブ配信セミナー(Zoom)を行います。

日時: 2022年5月20日(金曜) 10:30〜16:30

ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用
カテゴリー
ALE、セミナー、研究者
2022/03/31 / 最終更新日時 : 2022/03/31 ALD_Japan Know-How

産総研 ナノプロセッシング施設 新規導入ALD

産業技術総合研究所(ナノプロセッシング施設=NPF)が新規にOxford社のALDを導入しました。① in-situ XPS付き、高濃度オゾンラインあり ②窒化膜専用, insitu分光エリプソメーター付き の2台で、合計4台での成膜が可能となりました。ご興味のある方は以下にコンタクトしてみて下さい。

https://ssl.open-innovation.jp/npf/

befd65029b4496c6e76c1e3244b3c10bダウンロード
カテゴリー
Know-How、その他、半導体
2022/03/30 / 最終更新日時 : 2022/03/30 ALD_Japan セミナー

セミナー紹介「ALD(原子層堆積法)の基礎と高品質膜化および最新動向」

東京大学大学院の霜垣先生がALDに関するセミナーを行います。会場とオンラインの併設です。

日時: 2021年3月31日(木曜) 10:00〜17:00

場所: 東京・港区浜松町 ビジョンセンター浜松町  6F H室

講師: 東京大学大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻 教授 霜垣幸浩 氏

https://www.science-t.com/seminar/A220331.html

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セミナー、半導体、研究者

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シンポジウム紹介「ワイドバンドギャップ新材料の開拓」

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BENEQ社

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2022/05/11

産総研 ナノプロセッシング施設 新規導入ALD

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セミナー紹介「ALD(原子層堆積法)の基礎と高品質膜化および最新動向」

2022/03/30

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