オンラインシンポジウム紹介「原子層堆積技術（ALD）による成膜技術」

産業技術総合研究所 TIA推進センター ナノプロセシング施設主催にて、ALD技術全般に関してオンラインシンポジウムが12月22日（水）に開催されます。お申し込みはこちらをご覧下さい。

プログラム
12:55～13:00　はじめに　多田哲也氏（産業技術総合研究所）
13:00～13:30　「ALDで絶縁膜を形成したMOSFETについて　-III-V族系を中心として-　」後藤高寛氏
13:30-13:50 「Super high-dielectric constant Al2O3/TiO2 nanolaminates deposited by the atomic layer deposition technique」劉江偉氏（Jiangwei LIU）（物質・材料研究機構）
13:50-14:00 「NIMS微細加工共用施設とALD装置のご紹介」津谷大樹氏（物質・材料研究機構　微細加工プラットフォーム）
14:00-14:30 「ALD-酸化チタンを正極材料に用いた結晶シリコン太陽電池の開発」松井卓矢氏（産業技術総合研究所ゼロエミッション国際共同研究センター）
14:30-15:00 「Atomic Layer Deposition (ALD) overview and Introduction of Process Variety」伊藤昌平氏（オックスフォードインスツルメント）
15:00-15:10 「NPFのALD成膜事例と関連する評価・分析技術の紹介」有本宏氏（産業技術総合研究所ナノプロセシング施設NPF）
15:10-15:20  休憩
15:20-15:50「サーマルALD量産プロセスの最適化」佐藤博氏（PICOSUN JAPAN）　
15:50-16:00 「北海道大学の成膜設備（ALD、PLD、スパッタ）紹介」松尾保孝氏（北海道大学電子科学研究所ナノテク連携推進室）　
16:00-16:30 「独自のALD材料を用いた成膜プロセスのご紹介」西田章浩氏（株式会社ADEKA）　
16:30-17:00 「半導体製造用ALD原料に関する研究開発」徐永華氏（トリケミカル研究所）
17:00-17:30 「高純度オゾンを用いた低温ALDバッチプロセスの開発」亀田直人氏（明電ナノプロセス・イノベーション）