オンライン講習会紹介「CVD・ALDプロセスの基礎」

弊社も会員になっているCVD反応分科会主催にて、CVDとALDの講習会が12月14日月曜にオンラインで開かれます。（間際の連絡で誠にすみません。）お申し込みはこちらをご覧下さい。

プログラム
09:30～09:35　開会挨拶　分科会代表　河瀬元明氏
09:35～11:15　「反応速度論とCVDプロセスの反応速度解析」
　　　　　　　　河瀬 元明 氏（京都大学）
11:15～11:45　「CVD反応器の形状と操作が製膜速度分布・膜質に及ぼす影響」
　　　　　　　　羽深 等 氏（横浜国立大学）
11:45～13:15　休憩
13:15～13:45　「量産対応CVD装置の概要とシミュレーションを活用した設計・  
　　　　　　　　　開発」
　　　　　　　　川上 雅人 氏（東京エレクトロンテクノロジー
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ソリューションズ(株)）
13:45～14:45　「CVDにおける素反応の量子化学計算の方法と  
　　　　　　　　　素反応シミュレーションの実例」
　　　　　　　　松木 亮 氏（産業技術総合研究所）
14:45～15:15　「CVD・ALD原料の特性と原料選択の指針」
　　　　　　　　町田 英明 氏（気相成長(株)）
15:15～15:45　休憩
15:45～17:25　「ALDの基礎と応用用途」
　　　　　　　　霜垣 幸浩 氏（東京大学）
17:25～18:25　「MOVPEによる化合物半導体成長における製膜速度分布の制御」
　　　　　　　　杉山 正和 氏（東京大学）
18:25～18:30　閉会挨拶