シンポジウム紹介「アトミックレイヤープロセッシングの基礎と最新技術動向」
反応工学部会CVD反応分科会が主催されるALDのシンポジウムが開催されます。
日時: 2018年6月4日(月曜) 10:00〜17:50
場所: 東京大学 弥生キャンパス弥生講堂 一条ホール
講師
①名古屋大学 堀勝先生
②大阪大学 唐橋一浩先生
③日立製作所 栗原優氏
④東京大学 霜垣幸浩先生
⑤物質・材料研究機構 生田目俊秀先生
⑥東芝メモリ 相宗史記様
⑦みずほ情報総研 谷村直樹氏
⑧エア・リキード クリスチャン デュサラ氏
⑨産業技術総合研究所 クンプアン ソマワン氏
オーガナイザーの東京大学百瀬健先生よりプライヤーを頂きましたので、アップロードします。CVD反応分科会第28回シンポジウムフライヤ
お申し込みは以下のサイトより。
https://goo.gl/AYbZXe
弊社もパネル展示します。
