シンポジウム紹介「原子層プロセス技術の基礎と応用」

MNC2019で、ALDやALEに関するシンポジウムが開催されます。

日時: 2019年10月28日(月曜) 13:00〜17:00

場所: 広島国際会議場　B2F コスモス1

プログラム
13:00～13:05　「開会の挨拶」土屋智由氏（実行委員長、京都大学）
13:05～13:45　「プラズマを用いたALD/ALEの基礎と応用」小林伸好氏（名古屋大学）
13:45～14:25　「原子層成膜プロセスの次世代制御手法」
光成正氏（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ・名古屋大学）

14:25～14:40　Coffee Break

14:40～15:20　「原子層エッチングにおける表面反応」唐橋一浩氏（大阪大学）
15:20～16:00　「原子層プロセスで用いるプリカーサー設計とハンドリング」安原重雄氏（ジャパン・アドバンスト・ケミカルズ）
16:00～16:40　「Room Temperature Atomic Layer Deposition and Its Application to Gas Barrier」廣瀬文彦氏（山形大学）
16:40～16:55　「文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム微細加工プラットフォーム」

16:55～17:00　閉会の挨拶　有本宏氏（技術セミナーオーガナイザー、産業技術総合研究所）