シンポジウム紹介「原子層堆積/原子層エッチングの基礎と応用」

またまた急で恐縮ですが、以下の内容で東京大学霜垣先生たちがシンポジウムを開催致します。

日時:2017年2月1日(水) 13:00~17:45
会場:東京大学 本郷キャンパス 工学部4号館3階41講義室(417号室)
第25回シンポジウム「原子層堆積/原子層エッチングの基礎と応用」
主催:公益社団法人 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会

プログラム
12:30 受付開始
13:00~13:05 開会あいさつ
13:05~14:05 「ALD/ALEtの基本原理と課題・展望」
  東京大学 霜垣幸浩 氏
14:05~14:35 「ALD反応炉内での原子制御型ドット堆積を目指したスプレー法の開発」
  物質・材料研究機構 佐藤宗英 氏
14:35~14:50 休憩
14:50~15:30 「SiO2微細加工に対するQuasi-ALEアプローチの有用性」
  東京エレクトロン宮城 田端雅弘 氏
15:30~16:10 「プラズマと赤外光照射を用いた窒化膜の原子層レベルエッチング」
  日立製作所 篠田和典 氏
16:10~16:25 休憩
16:25~17:05 「既存ALD材料の組合せによる高性能ガスバリア膜」
  アルバック 座間秀昭 氏
17:05~17:45 「室温原子層堆積法の開発とその応用」
  山形大学 廣瀬文彦 氏
18:00~19:30 懇親会 会場:東京大学工学部4号館3階44講義室(401B号室)