シンポジウム紹介「流動層の基礎とCVD/ALDによる粉体材料の機能化」

反応工業会 反応工学部会 CVD反応分科会が主催で、ALDの技術も含めた粉体コーティングのシンポジウムが開催されます。

日時: 2018年11月9日(月曜) 13:00〜17:45

場所: 東京工業大学 キャンパスイノベーションセンター(最寄駅:JR山手線の田町駅)

プログラム
13:05~14:05 (基調講演)「流動触媒層の特徴と工業プロセスへの応用」
甲斐 敬美 氏(鹿児島大学)
14:05~14:45 「プラズマCVD法によるDLCコーティング技術」
本多 祐二 氏(アドバンストマテリアルテクノロジー)
14:45~15:25 「CVDの二次元場から三次元場への展開 – 流動層法による
高純度・長尺カーボンナノチューブの高収率合成」
野田 優 氏(早稲田大学)
15:25~15:40 休憩
15:40~16:20 「粉体へのALDコーティング概説 - 成膜方式と課題、
アプリケーション、世界の動向」
百瀬 渉 (ALDジャパン)
16:20~17:00 「Particle ALD developments and opportunities」
Paul Lichty 氏(Forge Nano社)
17:00~17:40 「室温原子層堆積法による微粒子上金属酸化物コーティング」
廣瀬 文彦 氏(山形大学)

お申し込みは以下のサイトより。
http://www2.scej.org/cre/cvd/event20181109.html

弊社より百瀬も講演を仰せつかり、発表致します。