セミナー紹介「第４回 Atomic Layer Process (ALP) Workshop」
大阪大学大学院浜口研究室主催でワークショップが開催されます。
日時: 2019年6月21日(金曜) 13:00〜18:00
場所: 大阪大学中之島センター 10階 佐治敬三メモリアルホール
大阪市北区中之島4-3-53
13:00-13:10 浜口智志氏 (大阪大）： 開会のご挨拶：趣旨説明
1 13:10-13:45
小口多美夫氏（大阪大学） マテリアルズ・インフォマティクスの概要と応用
2 13:45-14:20
生田目俊秀氏（NIMS) 原子層堆積法によるHf系酸化膜の作製とその特性
3 14:20 – 14:55
山口欣秀氏（日立） 有機錯体の生成と熱脱離を活用した難エッチング材料の選択エッチング
break 14:55-15:10
4 15:10-15:45
伊藤智子氏（大阪大学) 原子層エッチングプロセスにおける表面反応解析
5 15:45-16:20
平田瑛子氏（SONY) ITO表面反応メカニズムとサイクル加工
6 16:20 – 17:55
熊倉翔氏（東京エレクトロン）イオン改質を利用したSiN, SiCエッチング (ALE)
7 17:55 – 17:30
堤 隆嘉氏，近藤 博基氏，石川 健治氏，関根 誠氏，堀 勝氏 (名古屋大学)
プラズマ支援原子層プロセスにおける表界面反応層制御・診断
17:30- 17:35 浜口智志氏 (大阪大）： 閉会のご挨拶
17:45-19:45懇親会
