奈良先端科学技術大学院大学の浦岡行治先生

10月20日行われた浦岡先生のウェビナーを受講しました。他の成膜技術との比較、ALDの歴史から用途、特に半導体や太陽電池などの具体的な概説が分かりやすいものでした。有償セミナーでしたので詳細は割愛しますが、一つだけご紹介したいことがあります。（浦岡先生のご承諾済み）

Al2O3用のプリカーサー：DMAH（ジメチルアルミニウムハイドライド）というものです。TMAがメチル基３個ついているのに対して、DMAHでは３つのメチル基のうち一つが水素基になっています。これにより残留カーボンが低減し、TMAより良質なAl2O3膜を形成できるそうです。大量生産されているプリカーサーの置き換えは簡単ではないながら、高付加価値のデバイスでは採用が進むかもしれません。ご興味のある方は浦岡先生にコンタクトしてみてはいかがでしょうか？