常温成膜技術　明電舎

明電舎　常温成膜技術　ピュアオゾン

2018年12月5から7日に開催された高機能フィルム展にて、明電舎様がオゾンとエチレンガス（C2H4)）を利用した30℃のプロセス（CVD-SiO2とALD-Al2O3）を提案されておりました。

成膜速度が通常の２倍以上あるため、CVD的な成膜かもしれないとのこと。単層膜の評価ではバリア性がまだ十分ではないのですが、今後のマルチレイヤー化などの展開に期待されます。