ALD2015 Preview その１

今回のALD2015国際学会で興味深そうな案件（主観です！）を列挙しておこうと思います。

ALE Workshop、つまりAtomic Layer Etchingという原子層をエッチング(除去）する技術の専門部会が設けられています。最先端デバイスの開発の一端が学べそうです。発表者（共同開発者を含む）を羅列してみると以下のようです。
デバイスメーカー：Intel, IBM Research（Maryland大学）, STマイクロ（CEA-LETIと共同研究）
装置メーカー：東京エレクロトン、アプライドマテリアルズ、日立ハイテク（日立製作所と共同研究）、Lam Research
研究機関：Eindhoven大学（ドイツ）、Colorado大学（米国、ALDで有名なDr. Gorge Smith先生のチーム）、東北大学の寒川先生、Maryland大学（米国）、名古屋大学（日立製作所と共同研究）、Naval Research Lab, SungKyunKwan大学（韓国？）、MIT、Delaware大学（米国、エアーリキード（薬品メーカー）と共同研究）

SiO2, SiNxなどエッチングで半導体の話が主となるはずですが、個人的にはEindohoven大学のSpacial (空間的）ALEのコンセプト発表とMITのAlGaN/GaNのエッチングは面白そうです。