ALD2015 Preview その2

ALD2015のスケジュールは以下のサイトで確認できます。試しにタイトルだけから把握できるところで、材料とアプリケーションを軸に羅列し直してみました。(リアルタイム観察やシュミレーションの発表とポスター発表は除きます。)
ALD2015 日程

先づは6月29日の初日に関して。

成膜材料   アプリケーション        備考
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< ALD成長と個別化>
Ru              ?                            <100℃の低温、プラズマ利用
SiO2           LED                     GaN基板での成長、プラズマ利用
Al2O3         ダイヤモンド半導体   早稲田大学
SiO2            ?                               低温 (ALDとCVD)
ZnO           メタン検知       MWCNTへのZnOパーティクル
Titanicone    リチウムイオン電池   MLD (= Molecular Layer Deposition), 電極
TiAlC            半導体         22nm node CMOSメタルゲート
TiO2            バリア膜        PET基板、プラズマ利用
SiN              半導体         プラズマ利用
?                 DRAM(半導体)
Ta2O5          ReRAM(半導体)     プラズマ利用
Nb2O5         光導波路
酸化メタル     ReRAM(半導体)     10nm以下
Ge2Sb2Te5   位相変化メモリー
HfO2            RRAM(半導体)
?                  RRAM(半導体)

< ALD材料>
WS2             ?                                WF6 + H2S
3元材?         ?
SnO             ?                                 Sn(dmamp)2 + H2O
MoS2           ?                                 量産開発
Cuなど         ?

< エネルギー>
ZnOS           CIGS太陽電池     バッファーレイヤー、Spacial ALD
?                 ナノ触媒
Pt                燃料電池
Al2O3        ?                                低温熱式での結晶化
Y-ZrO          燃料電池                      多孔質銀カソード上への成膜
LiFePO4       Liイオン電池?

加えて、上記の分類には当てはまりませんが、量産技術の発表もこの日はあります。内容はこのような感じです。

–  プラズマALDの最適化と量産技術に相応しいプロセスの実現化
–  フォルクスワーゲンの取り組み
–  大気圧プラズマSpatial ALD
–  低スループットを打破するための空間分離プラズマALD
–  AAOM (Anodic Aluminum Oxide Membrane) のナノレベル多孔質をSpatial ALDでZnOコーティング
–  ALDの量産技術の動向

以上。

 

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