ALD2015 Preview その2
ALD2015のスケジュールは以下のサイトで確認できます。試しにタイトルだけから把握できるところで、材料とアプリケーションを軸に羅列し直してみました。(リアルタイム観察やシュミレーションの発表とポスター発表は除きます。)
ALD2015 日程
先づは6月29日の初日に関して。
成膜材料 アプリケーション 備考
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< ALD成長と個別化>
Ru ? <100℃の低温、プラズマ利用
SiO2 LED GaN基板での成長、プラズマ利用
Al2O3 ダイヤモンド半導体 早稲田大学
SiO2 ? 低温 (ALDとCVD)
ZnO メタン検知 MWCNTへのZnOパーティクル
Titanicone リチウムイオン電池 MLD (= Molecular Layer Deposition), 電極
TiAlC 半導体 22nm node CMOSメタルゲート
TiO2 バリア膜 PET基板、プラズマ利用
SiN 半導体 プラズマ利用
? DRAM(半導体)
Ta2O5 ReRAM(半導体) プラズマ利用
Nb2O5 光導波路
酸化メタル ReRAM(半導体) 10nm以下
Ge2Sb2Te5 位相変化メモリー
HfO2 RRAM(半導体)
? RRAM(半導体)
< ALD材料>
WS2 ? WF6 + H2S
3元材? ?
SnO ? Sn(dmamp)2 + H2O
MoS2 ? 量産開発
Cuなど ?
< エネルギー>
ZnOS CIGS太陽電池 バッファーレイヤー、Spacial ALD
? ナノ触媒
Pt 燃料電池
Al2O3 ? 低温熱式での結晶化
Y-ZrO 燃料電池 多孔質銀カソード上への成膜
LiFePO4 Liイオン電池?
加えて、上記の分類には当てはまりませんが、量産技術の発表もこの日はあります。内容はこのような感じです。
– プラズマALDの最適化と量産技術に相応しいプロセスの実現化
– フォルクスワーゲンの取り組み
– 大気圧プラズマSpatial ALD
– 低スループットを打破するための空間分離プラズマALD
– AAOM (Anodic Aluminum Oxide Membrane) のナノレベル多孔質をSpatial ALDでZnOコーティング
– ALDの量産技術の動向
以上。