ALD2015 Preview その3

6月30日(2日目)

成膜材料   アプリケーション        備考
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< ALD成長と個別化 >
?                  半導体III-V族            High-K用の安定化層
SiO2             ?                                ニッケルフィルム上
VO2              ?                                PLD  (= Pulse Laser Deposition)とALDの比較
S                  GaAs CMOS                 キャパシターの性能改善
InN               ?                                Atomic Layer Epitaxy
InZnO           ?                                透明電極
W                 ?                                CVD とホットワイヤー型ALDの比較
TMDCs          次世代半導体?               (MoS2, WS2など)
(= Transition Metal Dichalcogenide)
TiOxNy         半導体         東京エレクトロンのご発表
AlN               ?                                Atomic Layer Expitaxy
SiN               ?                                プラズマALD, プレカーサ選択

GaN              LED/パワーデバイス      プレカーサ比較、ホローカソードプラズマALD
酸化膜           次世代半導体?       単層グラフェン上、ウエハースケール
SiO2             ?                               Siと化合物半導体の接合界面の活性
SiXC             ?                               カーボン含有でSiベースの絶縁体
?                  ?                               プラズマと基板表面の反応
Al2O3           オプティカルファイバー  屈折率
フッ素系
フィルム 光学膜          Far UV光でのアルミミラーの保護と改善
BiFeO3          ?
ZnO              ?                               単一原子からWurtzite結晶構造へ
Al2O3           ?           低温

成膜材料   プレカーサ材      アプリケーション・備考
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酸化膜    アルコキシド   光アシスト型ALD
SiNx              窒素          プラズマ
MoS2             ?                       低温
SiNx              Trisilylamine       窒素プラズマ
Mn                ?
Au                 ?
?                   ?                        次世代プレカーサ?

成膜材料        備考
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< ULSI FEOL/BEOL>
Mnシリケート   Gordon 先生のご発表
TaN                      バリアー層、Low-k材
酸化金属              選択的ALD
?                         プレカーサ alkyl とalkylamideの比較、InAsやGaAs表面上
< ナノ構造 >
– TMDC(MoS2 )
– ポリマーテンプレートを使用した酸化金属の直接パターニング
– SilylationとUV/Ozonolysisを利用したALDパターニング
– 原子レベルのエッチング用マスクのためのUHV-ALD技術の開発
– ALD-VO2からV2O5ワイヤーの形成
– ALDを使用した単層分の厚みのInN/GaN量子井戸の開発(千葉大学)
– ALDによるmultiferroic材料の合成と反応

– Al2O3 High-K材成膜とMoS2の電気特性
– ALD-TiO2, フルフレルアルコールのポリマー形成(重合)、そして熱分解によるファイバーコーティング
– プレカーサー:WF6, H2S, H2プラズマによるWS2のプラズマALD成膜
– 銀ナノワイヤーへAl2O3を形成した2軸キャパシター
– ZnOナノ構造合成
– MoS2

成膜材料   アプリケーション        備考
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< エネルギー >
?                  太陽電池        3Dナノワイヤ
?                  ナトリウムイオン電池  ナトリウム含有アノードとカーソド材料
SiOx/Al2O3   ?
AlS               Liイオン電池
ZnO              熱電物質
V2O5            スーパーキャパシター  メソやマイクロ多孔質へのALD成膜
?                   触媒          触媒の合成、高スループットALD

成膜材料      アプリケーション        備考
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< 新規物質 >
有機無機超格子     ?                                熱電導性
ZnS                 透明導電膜       Cuドーピング
Triethanolamine-metalcone
バリアー層       MLD
有機無機フィルム  Liイオン電池
Fe2O3                 ?                                 Atomic Layer Epitaxy成長

成膜材料   アプリケーション        備考
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< エネルギー >
TiO2             ペロブスカイト太陽電池 ブロッキング層
?                  金属触媒
TiO2             ?                                 水プレカーサー使用
LaSrCo         SOFC (固体酸化物形燃料電池) 電極
?                  リチウム酸素電池    ナノ構造カソードの合成
RuO2           擬似キャパシター
?                 固体リチウム電解質          マルチレイヤー
Ta2O5         水分解                            フォトアノードの保護膜

成膜材料      アプリケーション        備考
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< 新規物質 >
MoS2                ?
Pd                      ?                                  グラフェン上にパラジウムナノパーティクルを形成
ポリユリア    ?                                  MLD
有機無機材    光触媒          光触媒の調整
?                        ?                                  プラズマALD, PTFE

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