Semicon ジャパン2016

セミコンジャパン2016、12月14日から16日東京ビッグサイトで開催されました。ALD関連の展示について、記載します。(下記は私見であり、全てのブースを確認したわけでもありません。)

A. 装置
① JSWアフィティ社(日本製鋼所)
今回のハイライトと言っても過言ではなく、バリア層の形成にCVD/ALD複合成膜装置を提案していました。驚くことに、ガラスの水蒸気・酸素の透過率に迫る数値をg/m・day でマイナス6乗、基板を曲げた状態でマイナス5乗と実用に迫るCVD-SiO2/AlD-Al2O3/CVD-SiO2の3層構造です。先行するフィンランドのPicosun社やBeneq社を追い越せるのか、今後の活躍に注目です。

② SHUTECH社
ALD装置製造経験では30年以上の実績豊富な韓国のCN1社の取り扱いをしておりました。CN1社の量産装置は、SHUTECH社とともにALDジャパンでも取り扱って参ります。装置のお問い合わせは、こちらまでご連絡下さい。

③ サムコ社
LEDやMEMS向けでCVDやエッチャーで実績のあるサムコ社が、Cambridge Nanotech/Ultratech社を模したと思われるALD装置(モデル:AL-1)をパネル発表しておりました。

④ ハイテック・システムズ社
米国Ultratech/Cambrdige社のALDを扱うハイテック・システムズ社が、フランスANNEALSYS社のDLI型のALD装置をパネル展示していました。DLI = Direct Liquid Injection のことで、なかなか出てこない低蒸気圧のプリカーサーを蒸気化する(vaporizer)機器が組み込まれています。

⑤ ワッティー社
ヒーター・センサーの製造メーカーのワッティー社がALD装置の展示をしておりました。

B. 材料
⑥ 高千穂商事社
米国GELEST社のALD用プリカーサーやALE用エッチングガスなどの展示をしておりました。