産総研 ナノプロセッシング施設 新規導入ALD
産業技術総合研究所（ナノプロセッシング施設＝NPF）が新規にOxford社のALDを導入しました。① in-situ XPS付き、高濃度オゾンラインあり ②窒化膜専用, insitu分光エリプソメーター付き の2台で、合計4台での成膜が可能となりました。ご興味のある方は以下にコンタクトしてみて下さい。
産業技術総合研究所（ナノプロセッシング施設＝NPF）が新規にOxford社のALDを導入しました。① in-situ XPS付き、高濃度オゾンラインあり ②窒化膜専用, insitu分光エリプソメーター付き の2台で、合計4台での成膜が可能となりました。ご興味のある方は以下にコンタクトしてみて下さい。
