Atomic Layer Deposition 原子層堆積技術について

製品

営業品目
Anric Technologies社(米国)製
① 原子層堆積(ALD)装置  Model: AT-400

1. コンパクト(卓上型)
2. 基板:最大4インチ
3. 熱式(ホットウォール式、最高350℃)
4. 豊富なプロセス開発の知見を盛り込んだプロセスノウハウ(プリカーサー投入量の精密制御)
5. 標準レシピ(Al2O3, TiO2, HfO2, Pt, Ru etc)+カスタムレシピ作成モード
Al2O3/TiO2/A2O3/HfOx…などマルチレイヤー対応可能
6. 豊富なレシピと将来に渡って広がるレシピのバリエーション (新規材料開発のご相談も承っております。)
Anric Technologies サイト

MP400_AssemblyGB_002_2015-Sep-16_06-23-18PM-000_view2

開発者の紹介
Philippe de Rouffignac, Ph.D は現在Harvard University, Department of Chemistry (Dr. Roy Gordon)、及びCenter for Nanoscale Systems でCVD/ALD のプリカーサー開発などの開発を担当。
学生時代もDr. Gordon の元で5台のALDを手作りし、メーカー勤務時代もALD開発に従事。
カタログ: Anric ALD AT-400
カタログ:Anric ATOzone

CN-1社(韓国)製
② 原子層堆積(ALD)装置  Model: Atomic Premium
1. 量産およびパイロットライン用装置
2. 基板:
6, 8 & 12インチ (その他も対応可能。お問合せください。)
3. プラズマ
&熱式(最高500℃)
4. 販売実績:
140台(2018年4月時点)
CN-1社サイト

Delft IMP 社(オランダ)製
③粉体用ALD装置  IMPALA シリーズ

Fluidized Bed方式(流動槽方式)
バッチ式(生産成膜毎に、リアクターを取外し再度取り付ける。)
 Pneumatic Transport方式(ガス輸送方式(連続運転の量産装置)
パイロットライン:毎時10kgの粉体処理量
カタログ: IMPALAシリーズ

④Au プリカーサー
Dr. Seán Barry(Charleton 大学(カナダ))が開発した金のプリカーサー
カタログ: Auプリカーサー

⑤プリカーサー用ステンレス容器
お問い合わせください。
2015-12-13 11.40.10 のコピー

お問合せ先
ALDジャパン株式会社  営業部
東京都府中市寿町1-3-10
電話:     042-360-3152   メール: sale[at]aldjapan.com  
(「[at]」を「@」で入れ替えて下さい。)

  • Facebook
  • Hatena
  • twitter
  • Google+
  • LINE
PAGETOP
Copyright © ALD Japan, Inc. All Rights Reserved.
Powered by WordPress & BizVektor Theme by Vektor,Inc. technology.
Translate »