Atomic Layer Deposition 原子層堆積技術について

製品

営業品目
Anric Technologies社(米国)製
① 原子層堆積(ALD)装置  Model: AT-400

1. コンパクト(卓上型)
2. 基板:最大4インチ
3. 熱式(ホットウォール式、最高350℃)
4. 豊富なプロセス開発の知見を盛り込んだプロセスノウハウ(プリカーサー投入量の精密制御)
5. 標準レシピ(Al2O3, TiO2, HfO2, Pt, Ru etc)+カスタムレシピ作成モード
Al2O3/TiO2/A2O3/HfOx…などマルチレイヤー対応可能
6. 豊富なレシピと将来に渡って広がるレシピのバリエーション (新規材料開発のご相談も承っております。)
Anric Technologies サイト

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開発者の紹介
Philippe de Rouffignac, Ph.D は現在Harvard University, Department of Chemistry (Dr. Roy Gordon)、及びCenter for Nanoscale Systems でCVD/ALD のプリカーサー開発などの開発を担当。
学生時代もDr. Gordon の元で5台のALDを手作りし、メーカー勤務時代もALD開発に従事。
カタログ: Anric ALD AT-400

カスタム版のALD開発も可能ですので、お問い合わせください。


② オゾン発生機  Model: ATOzone
ALD & CVD用高純度オゾン発生機
カタログ:Anric ATOzone

 

Delft IMP 社(オランダ)製
粉体用ALD装置  IMPALA シリーズ

③ Fluidized Bed方式(流動槽方式)
バッチ式(生産成膜毎に、リアクターを取外し再度取り付ける。)
④ Pneumatic
Transport方式(ガス輸送方式(連続運転の量産装置)
パイロットライン:毎時10kgの粉体処理量
カタログ: IMPALAシリーズ

 

⑤Au プリカーサー
Dr. Seán Barry(Charleton 大学(カナダ))が開発した金のプリカーサー
カタログ: Auプリカーサー

⑥プリカーサー用ステンレス容器
お問い合わせください。
2015-12-13 11.40.10 のコピー

お問合せ先
ALDジャパン株式会社  営業部
東京都府中市寿町1-3-10
電話:     042-360-3152   メール: sale[at]aldjapan.com  
(「[at]」を「@」で入れ替えて下さい。)

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