このサイトでは学生や一般の方向けに原子層堆積（ALD, Atomic Layer Deposition）技術などの原理などを楽しく説明しています。

更新情報
2023年11月20日 AT-200Mを１台、徳島大学様より受注致しました。  （しばらく更新せずにすみません。）
2023年8月20日  Chipmetrics社製高アスペクト比確認用チップを10個単位で受注致しました。
2023年6月1日 弊社代理店のオランダDelft IMP社（粉体用ALD装置メーカー）が社名変更し、Powall社となりました。
2023年5月22日 東京大学様とAT-410の売買に関する契約書を締結致しました。
2023年1月5日　AT-410とATOzoneをアジアのお客様より１台づつ受注致しました。
2022年11月20日 オゾン発生機ATOzoneをアジアのお客様より１台受注致しました。
2022年8月17日 オゾン発生機ATOzoneを１台受注致しました。
2022年8月8日 Anric Technologies社よりAT-200Mがリリースされました。
2022年5月20日 AT-410を１台、東京都立大学様へ導入し立上げ完了致しました。
2022年5月18日 AT-410を１台アジアのお客様より受注致しました。
2022年4月5日 ALD用QCMのPhoenixを国内企業様より受注致しました。
2021年10月18日 オゾン発生機ATOzoneを１台受注致しました。
2021年7月9日 オゾン発生機ATOzoneの追加受注致しました。
2021年5月26日 Nb2O5プロセスを完成させました。
2021年3月31日 国内の企業様よりオゾン発生機ATOzoneを1台受注致しました。
2021年3月17日 アジアの研究機関よりAT-410を受注致しました。
2019年5月11日 MLD (Molecular Layer Deposition)の初期開発について調査し、その結果を公開しました。

デモ機(Anric Technologies社AT-400)の見学、新規材料開発のコンサルティングも承っております。ご相談下さい。