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このサイトでは学生や一般の方向けに原子層堆積(ALD, Atomic Layer Deposition)技術などの原理などを楽しく説明しています。

出展・講演情報
2019年7月21日〜24日 ALD/ALE 2019, Bellevue, Washington, USA, Anric Technologies社とCN1社が出展します。

更新情報
2019年5月11日 MLD (Molecular Layer Deposition)の初期開発について調査し、その結果を公開しました。
2019年3月9日 産業技術総合研究所様よりColnatec社製TEMPEセンサーのご注文を頂きました。
2019年1月11日大阪大学様よりColnatec社製QCM膜厚モニターTEMPEを初受注しました。欧米を中心にALDプロセス開発で採用されている機器ですが、これを機に日本でも広がるものと思います。
2018年8月27日 ALDや蒸着装置で使うQCM膜厚制御モニターリング装置及び水晶振動子の取り扱いを開始しました。成膜温度を固定する必要はなく柔軟に20〜500℃で膜厚制御やモニタリングができます。

140台以上の販売実績があるCN-1社のALD装置(8インチや12インチ、クラスターツールも実績あり)を販売開始します。
物質・材料研究機構様様で、最近触媒材料などのALD成膜も開始されました。共同研究や評価なども対応可能とのことです。 ご希望の方はALDジャパンまで
お問い合わせください。仲介させて頂きます。

デモ機(Anric Technologies社AT-400)の見学、新規材料開発のコンサルティングも承っております。ご相談下さい。

2015-09-30 11.07.03 のコピー

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