このサイトでは学生や一般の方向けに原子層堆積（ALD, Atomic Layer Deposition）技術などの原理などを楽しく説明しています。

更新情報
2024年9月17日東京大学様よりAT-200Mを1台受注致しました。
2024年8月26日  応用物理学会（秋）併設展へ出展します。朱鷺メッセ、9月16日（月）13:00 〜 19日（木）18:00まで。
なお、シンポジウム「原子層プロセス(ALP)の基礎と最新技術動向」が9月18日13:30-19:30、会場A23で開催されます。
2024年8月2日  奈良先端科学技術大学院大学様とAnric Technologies社のプラズマ式ALD装置AT-650Pに関して、物品供給契約を結びました。
2024年7月25日  アジアのお客様よりAT-410を1台、受注致しました。
2024年7月24日  カナダのMeaglow社と総販売代理店契約を結びました。日本でホローカソードプラズマユニットを販売してまいります。
2024年7月23日  ALD2024のProgram Chairのヘルシンキ大学Mikko Ritala先生にAT-200Mをご採用いただきました。
2024年5月13日  九州大学様よりALD装置AT-200Mを1台、受注致しました。
2024年5月10日  国内の私立大学様よりオゾン発生機ATO3を1台、受注致しました。
2024年3月26日  アジアのお客様よりAT-410を1台、受注致しました。
2024年1月26日 表面技術協会『表面技術』（「小特集：原子層スケールで制御する表面処理技術」）で執筆した粉体ALDの解説記事へのリンクをお知らせします。
2024年1月17日　装置AT-200MとAT-650Pの更新カタログをアップロードしました。AT-200Mでは粉体用コーティング機構もオプションで備えております。
2024年1月10日　熱式ALD装置AT-410でTiNのプロセスを開発しました。
2023年12月27日　Chipmetrics社製高アスペクト比確認用チップを10個を産総研様より受注致しました。
2023年12月6日 オゾン発生機を１台、アジアのお客様より受注致しました。（なおオゾン発生機は本年8月よりバージョンアップしております。）
2023年11月20日 AT-200Mを１台、徳島大学様より受注致しました。（しばらく更新せずにすみません。）
2023年8月20日  Chipmetrics社製高アスペクト比確認用チップを10個単位で受注致しました。
2023年6月1日 弊社代理店のオランダDelft IMP社（粉体用ALD装置メーカー）が社名変更し、Powall社となりました。
2023年5月22日 東京大学様とAT-410の売買に関する契約書を締結致しました。
2023年1月5日　AT-410とATOzoneをアジアのお客様より１台づつ受注致しました。
2019年5月11日 MLD (Molecular Layer Deposition)の初期開発について調査し、その結果を公開しました。

デモ機(Anric Technologies社AT-410)の見学、新規材料開発のコンサルティングも承っております。ご相談下さい。