Atomic Layer Deposition 原子層堆積技術について

このサイトでは学生や一般の方向けに原子層堆積(ALD, Atomic Layer Deposition)技術などの原理などを楽しく説明しています。

出展講演情報
2019年1月30日〜2月1日 nanotech2018@東京ビッグサイト ブース番号:ベンチャーパビリオン 5A-02-06

更新情報
2018年11月16日 AT-410をアジアの企業様より受注致しました。
2018年10月10日 Anric Technologies社より6インチ基板対応のAT-610の出荷を開始しました。
2018年8月27日 ALDや蒸着装置で使うQCM膜厚制御モニターリング装置及び水晶振動子の取り扱いを開始しました。成膜温度を固定する必要はなく柔軟に20〜500℃で膜厚制御やモニタリングができます。

140台以上の販売実績があるCN-1社のALD装置(8インチや12インチ、クラスターツールも実績あり)を販売開始します。
物質・材料研究機構様様で、最近触媒材料などのALD成膜も開始されました。共同研究や評価なども対応可能とのことです。 ご希望の方はALDジャパンまで
お問い合わせください。仲介させて頂きます。

デモ機(Anric Technologies社AT-400)の見学、新規材料開発のコンサルティングも承っております。ご相談下さい。

2015-09-30 11.07.03 のコピー

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