Atomic Layer Deposition 原子層堆積技術について

このサイトでは学生や一般の方向けに原子層堆積(ALD, Atomic Layer Deposition)技術などの原理などを楽しく説明しています。

更新情報
2018年10月16日 粉体のALDコーティングを含めたコーティング技術のシンポジウム「流動層の基礎とCVD/ALDによる粉体材料の機能化」(11月9日金曜)が開催れます。(発表講演は3件ですが、おそらく日本で初めての粉体用ALDコーティングに関するシンポジウムです。)
2018年10月10日 Anric Technologies社より6インチ基板対応のAT-610の出荷を開始しました。
2018年8月27日 ALDや蒸着装置で使うQCM膜厚制御モニターリング装置及び水晶振動子の取り扱いを開始しました。成膜温度を固定する必要はなく柔軟に20〜500℃で膜厚制御やモニタリングができます。

2018年7月19日 ALD/ALD2018プログラムの翻訳を終了しました。世界では様々な応用研究があることを知って頂ければ、幸いでございます。

140台以上の販売実績があるCN-1社のALD装置(8インチや12インチ、クラスターツールも実績あり)を販売開始します。
物質・材料研究機構様様で、最近触媒材料などのALD成膜も開始されました。共同研究や評価なども対応可能とのことです。 ご希望の方はALDジャパンまで
お問い合わせください。仲介させて頂きます。

デモ機(Anric Technologies社AT-400)の見学、新規材料開発のコンサルティングも承っております。ご相談下さい。

2015-09-30 11.07.03 のコピー

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