営業品目
Anric Technologies社（米国）製
① 原子層堆積(ALD)装置 Model: AT-410（4インチ用）とAT-610（6インチ用）
1. コンパクト（卓上型）
2. 基板サイズ：最大４インチ(100mm)と6インチ(150mm)
3. 熱式（ホットウォール式、最高320℃）
4. 豊富なプロセス開発の知見を盛り込んだプロセスノウハウ（プリカーサー投入量の精密制御）
5. 標準レシピ(Al2O3, TiO2, HfO2, Pt, Ru etc)＋カスタムレシピ作成モード
Al2O3/TiO2/A2O3/HfOx…などマルチレイヤー対応可能
6. 豊富なレシピと将来に渡って広がるレシピのバリエーション （新規材料開発のご相談も承っております。）
Anric Technologies サイト
開発者の紹介
Philippe de Rouffignac, Ph.D は現在Harvard University, Department of Chemistry (Dr. Roy Gordon)、及びCenter for Nanoscale Systems でCVD/ALD のプリカーサー開発などの開発を担当。
学生時代もDr. Gordon の元で５台のALDを手作りし、メーカー勤務時代もALD開発に従事。
カタログ： AT-410/610
実績： Harvard大学、Northwest大学、Cambridge大学（イギリス）、Rice大学、British-Columbia大学（カナダ）、ENS-Paris （フランス, 高等師範学校）、物資・材料研究機構（2台）、早稲田大学など（企業も多数導入済み）
② Model: AT-650P
1. コンパクト
2. 基板サイズ：最大6インチ(150mm)
3. プラズマ方式： ICP方式とホローカソード方式
4. 基板加熱温度（基板直下より）：400℃
カタログ： AT-650P
③ Model AT-200M
1. とてもコンパクト（卓上型）
2. 基板：最大2インチ(50mm) また粉体オプションあり
3. 熱式（ホットウォール式、最高300℃）
Delft IMP 社（オランダ）製
④ 粉体用ALD装置 IMPALA シリーズ
Pneumatic Transport方式（ガス輸送方式（連続運転の量産装置）
パイロットライン：毎時10kgの粉体処理量
カタログ： IMPALAシリーズ
フィンランドChipmetrics社製
⑤ 高アスペクト比確認用テストチップALDやCVDプロセス開発用の簡易アスペクト比成膜確認用テストチップ。TEMを使用することなく光学顕微鏡で高いアスペクト比の構造の成膜確認が可能です。
カタログ： PillarHall
Colnatec社（米国）製
⑥ QCM (Quartz Crystal Microbalance, 水晶振動子マイクロバランス) 膜厚測定＆制御装置と水晶振動子
1. 対応装置：ALD, CVD, 蒸着装置（光学薄膜やOLED用途）
2. シャッターの開閉にも周波数変動が起きないRCカット水晶振動子
3. 従来品よりも高分解能(0.001Hz) => より高精度に膜厚測定が可能
4. 従来にない柔軟性。温度を測定しながら20〜500℃の膜厚測定が可能
5. 廉価
QCM and quartz 日本語カタログ V.1.1
Increasing the Accuracy of Quartz Crystal Thin Film Sensors in Production Processe1
⑦ Au プリカーサー
Dr. Seán Barry（Charleton 大学（カナダ））が開発した金のプリカーサー
カタログ： Auプリカーサー
⑧ プリカーサー用ステンレス容器
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