シンポジウム紹介「選択製膜の基礎と応用」

CVD反応分科会主催にて、最近ALDの分野（特に半導体）でも注目を浴びる選択成膜のシンポジウムが開かれます。（間際の連絡ですみません。）お申し込みはこちらをご覧下さい。

プログラム
13:00～13:05　開会挨拶
13:05～14:05　基調講演「CVD/ALD／選択成長プロセスの開発のカギを握る製膜初期過程の理解と制御」霜垣幸浩氏（東京大学）
14:05～14:45　「いまさら聞けない選択タングステン」大場隆之氏（東京工業大学）
14:45～15:05　休憩
15:05～15:45　「化合物半導体のMOVPEプロセスと選択成長」杉山正和氏（東京大学）
15:45～16:15　「選択製膜への挑戦と課題」東雲秀司氏（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社）
16:15～16:35　休憩
16:35～17:15　「ナノカーボンのCVD選択成長とデバイス応用」前橋健三氏（東京農工大学）
17:15～17:55　「表面素反応からみた薄膜成長プロセス」吉信淳氏（東京大学）
17:55～18:00 閉会挨拶

シンポジウムオーガナイザー
　築根敦弘氏（太陽日酸株式会社）
　三宅雅人氏（奈良先端科学技術大学大学院）
　川上雅人氏（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社）
　森伸介氏（東京工業大学）