2016/02/25 / 最終更新日時 : 2016/02/25 ALD_Japan 未分類 記事情報「グラフェン超える2D材料群、“ポストSi”に名乗り」 日経エレクトロニクス 2016年3月号(要登録) 「グラフェン超える2D材料群、“ポストSi”に名乗り 超高速論理回路や大面積受発光素子が実現可能に」 次世代材料グラフェンが注目を集めているけれど、バンドギャップがない […]
2016/02/11 / 最終更新日時 : 2016/02/11 ALD_Japan 未分類 セミナー紹介「ALD(原子層堆積法)の基礎と高品質膜化および最新動向」 日時: 2016年3月18日(金曜) 10:30〜16:30 場所: 東京 大田区産業プラザ 講師: 東京大学 大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻 専攻長 教授 霜垣 幸浩先生 詳細情報: http://www.sc […]