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2018年9月

2018/09/25 / 最終更新日 : 2019/05/27 ALD_Japan セミナー

講習会紹介「CVD・ALDプロセスの基礎」

反応工学部会CVD反応分科会が主催されるCVDとALDの講習会が開催されます。日時: 2018年10月31日(水曜) 10:00〜18:00 場所: 東京大学　本郷キャンパス武田先端知ビル５F　武田ホール講師 ①京都 […]

2018/09/20 / 最終更新日 : 2019/05/27 ALD_Japan 太陽電池

太陽電池へのALDの使用例

名古屋大学の黒川康良先生より論文を２つ頂きました。 ① MRS ナノワイヤーを使った太陽電池のご研究で、ナノワイヤーをALDのTiO2とAl2O3で被覆させております。MRS_Advances_掲載版 ② WC […]

2018/09/13 / 最終更新日 : 2018/09/13 ALD_Japan セミナー

講習会の紹介「CVD・ALDプロセスの基礎」

反応工学部会CVD反応分科会が主催されるCVD/ALDの講習会が開催されます。日時: 2018年10月31日(水曜) 10:00〜18:00 場所: 東京大学　本郷キャンパス武田先端知ビル5F武田ホールタイトル：「C […]

2020/03/24 / 最終更新日 : 2020/03/24 ALD_Japan 半導体

ALD-Pt成膜によるCu-Cu接合の低温化と接合強化

Anric Technologies社製AT-400を使ったご研究の内容を早稲田大学水野潤教授のチーム（桑江博之助教（当時））より頂戴しましたので、記載します。面白いのはCu表面に選択的にALD成膜をしてPtを付けていることです。またCu-Cu接合は微細化が厳しくなっている半導体パッケージ分野でも重要な技術であり、今後の量産ラインでもALDが使用されることを期待します。
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jiepeng/13/0/13_E19-014-1/_article/-char/ja/

カテゴリー: 半導体

2020/03/19 / 最終更新日 : 2020/03/19 ALD_Japan セミナー

セミナー紹介「ＡＬＤ（原子層堆積法）の基礎と高品質膜化および最新動向」

東京大学大学院の霜垣先生がALDに関するセミナーを行います。なお、コロナウイルスのため、会社や自宅からも聴講可能とのことです。

日時: 2020年3月30日(月曜) 10:00〜17:00

場所: 東京・品川区大井町きゅりあん 5F 第2講習室

講師: 東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻教授　霜垣幸浩氏

https://www.science-t.com/seminar/B200330.html

カテゴリー: セミナー

2020/02/15 / 最終更新日 : 2020/02/21 ALD_Japan セミナー

延期になりました。講習会紹介「CVD・ALDプロセスの基礎」

反応工学部会CVD反応分科会が主催されるCVDとALDの講習会が開催されます。

日時: ~~2020年2月28日(金曜) 10:00〜18:00~~

場所: 東京大学本郷キャンパス工学部11号館1階 HASEKO-KUMA-HALL

講師
①京都大学河瀬元明先生
②横浜国立大学　羽深等先生
③東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ　川上雅人氏
④産業技術総合研究所　松本亮先生
⑤東京大学　杉山正和先生
⑥東京大学　霜垣幸浩先生
⑦気相成長(株)町田英明氏

お申し込みは以下のサイトより。

http://www2.scej.org/cre/cvd/event.html

カテゴリー: セミナー

2020/02/10 / 最終更新日 : 2020/02/15 ALD_Japan セミナー

ウェビナー（Webセミナー）紹介（英語）「Atomic Layer Deposition Including Recent Developments」

DRAM製造メーカーであるMicron Technology社の方がWebinarを実施します。先端のDRAMではキャパシター構造が高アスペクト比で、例えば100:1などに達しており、もし本当に最近の開発状況が開示されれば、非常に面白いかと。
早朝に強い方、ぜひーどうぞ。

日時: 2020年3月11日（水曜） 13:00〜17:00 （米国東部時間（つまり日本では3月12日の深夜2:00AM〜6:00AM）

場所：インターネット上

講師: Robert K. Grubbs (マイクロンテクノロジー社)

申込先：　https://assets.swoogo.com/uploads/434381-5e21e9e840f10.pdf

カテゴリー: セミナー

2020/02/10 / 最終更新日 : 2020/02/10 ALD_Japan 粉体ALD

Forge Nano社とALD NanoSolutions社の合併

先週2月7日粉体用ALD装置を製造販売する米国の２つの会社が合併するという発表を行いました。
https://www.forgenano.com/news/forge-nano-and-ald-nanosolutions-combine-forces-to-bring-atomic-level-manufacturing-into-the-future/

カテゴリー: 粉体ALDと装置メーカー

2019/12/17 / 最終更新日 : 2019/12/17 ALD_Japan 半導体

セミコンジャパン2019

12月11日〜13日まで開催されたセミコンジャパンを訪問しました。新規な内容があまり目につくことのないというのが正直な感想ですが、ALDに関して目についたことを記載します。

バルブに関して
Swagelok社より大容量タイプのALDバルブが発表紹介されており、バッチ処理の装置への進展が進んでいることを感じました。またCKD社よりMax. 280℃に耐えられるバルブも出展されており、より高温のALDプロセスの需要も高まっているものと思われました。添付はCKD社様のご厚意により、撮られせ頂いたラインアップになります。

株式会社セルバック
新しくALD分野へ参入して来た装置メーカーのようです。
https://selvac.co.jp

カテゴリー: 半導体と装置メーカー

2019/12/02 / 最終更新日 : 2019/12/02 ALD_Japan セミナー

セミナー紹介「ALD(原子層堆積法)の基礎と応用」

東京大学大学院の霜垣先生がALDを中心にCVDとALEに関するセミナーを行います。

日時: 2020年1月21日(火曜) 10:30〜16:30

場所: ちよだプラットフォームスクウェア　地下１F　ミーティングルーム002

講師: 東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻教授　霜垣幸浩氏

ALD(原子層堆積法)の基礎と応用(１日コース)

カテゴリー: セミナー

2019/11/18 / 最終更新日 : 2019/11/18 ALD_Japan セミナー

研究会紹介「CVD研究会」

オックスフォード・インストゥルメンツ社の伊藤氏がALDに関する発表「Atomic layer deposition (ALD) general overview and recent process activity」を行います。

日時: 2019年12月10日(火曜) 10:30〜11:20

場所: 名古屋大学東山キャンパスナショナル・イノベーション・コンプレックス (NIC)１階 Idea Stoa

講師: オックスフォード・インストゥルメンツ社伊藤昌平氏

http://cvd.jpn.org/future/

カテゴリー: セミナー

2019/10/25 / 最終更新日 : 2019/11/06 ALD_Japan セミナー

セミナー紹介「ALD(原子層堆積法)」ALEt(原子層エッチング)の基礎・応用・最新動向

東京大学大学院の霜垣先生がALDとALEに関するセミナーを行います。

日時: 2019年11月26日(火曜) 10:00〜16:30

場所: 東京・亀戸　商工情報センター（カメリアプラザ）9F 研修室

講師: 東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻教授　霜垣幸浩氏

https://www.rdsc.co.jp/seminar/191144

カテゴリー: セミナー

2019/10/25 / 最終更新日 : 2019/10/25 ALD_Japan セミナー

シンポジウム紹介「原子層プロセス技術の基礎と応用」

MNC2019で、ALDやALEに関するシンポジウムが開催されます。

日時: 2019年10月28日(月曜) 13:00〜17:00

場所: 広島国際会議場　B2F コスモス1

プログラム
13:00～13:05　「開会の挨拶」土屋智由氏（実行委員長、京都大学）
13:05～13:45　「プラズマを用いたALD/ALEの基礎と応用」小林伸好氏（名古屋大学）
13:45～14:25　「原子層成膜プロセスの次世代制御手法」
光成正氏（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ・名古屋大学）

14:25～14:40　Coffee Break

14:40～15:20　「原子層エッチングにおける表面反応」唐橋一浩氏（大阪大学）
15:20～16:00　「原子層プロセスで用いるプリカーサー設計とハンドリング」安原重雄氏（ジャパン・アドバンスト・ケミカルズ）
16:00～16:40　「Room Temperature Atomic Layer Deposition and Its Application to Gas Barrier」廣瀬文彦氏（山形大学）
16:40～16:55　「文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム微細加工プラットフォーム」

16:55～17:00　閉会の挨拶　有本宏氏（技術セミナーオーガナイザー、産業技術総合研究所）

カテゴリー: セミナーと半導体