コンテンツへスキップ ナビゲーションに移動

ALD Japan, Inc.

  • ホーム
  • 原理
    • アプリケーション
    • プリカーサー
    • ALE – Atomic Layer Etching
  • ハードウエア
    • 粉体用ALDコーティング
    • オゾンやプラズマについて
    • その他ハードウエア
  • 製品
  • お問合せ
  • ブログ
ブログ
  1. HOME
  2. ブログ
  3. 2019年8月

2019年8月

2019/08/30 / 最終更新日時 : 2019/08/30 ALD_Japan セミナー

シンポジウム紹介「アトミックレイヤープロセスの最新動向」

応用物理学会秋季学術講演会の中で、ALDやALEに関するシンポジウムが開催されます。(弊社もスポンサーをさせて頂きます。) 日時: 2019年9月20日(金曜) 13:30〜18:00 場所: 北海道大学 N304 プロ […]

2019/08/07 / 最終更新日時 : 2019/08/08 ALD_Japan セミナー

セミナー紹介「ALDプロセスの基礎と応用展開 〜ALD用原料開発と最新情報」

気相成長社の町田氏がALDプロセス、ALD基礎と原料開発に関するセミナーを行います。 日時: 2019年9月6日(金曜) 12:30〜16:30 場所: [神奈川・川崎]川崎市産業振興会館 10階第4会議室 講師: 気相 […]

最近の投稿

2023/08/25 / 最終更新日時 : 2023/08/25 ALD_Japan セミナー

オンデマンド配信の紹介「ALD(原子層堆積法)技術の基礎・入門と応用展開」

奈良先端科学技術大学院大学の教授浦岡行治氏がALDに関するセミナーがオンデマンドで聴講出来ます。

期限: 2023年10月30日(月曜)まで

https://www.science-t.com/seminar/O230706.html

カテゴリー
セミナー、半導体、太陽電池、研究者
2023/08/04 / 最終更新日時 : 2023/08/04 ALD_Japan ALD 国際学会 ALE

ALD/ALE2023

米国シアトル近郊のベルビューで7月23日から26日開催された学会に参加して来ました。

全体としては盛況でしたが、日本からの参加者は例年並みに少ないながらも大阪大学浜口智志先生(ご発表内容:ALE)、東北大学熊野勝文先生、名古屋大学グエン先生(ご発表内容:ALE)、東京大学小林正文先生(ご発表内容:先端半導体のデバイス構造)が参加されておりました。
また昨今の米中問題からか、中国からの参加者は大きく減少している様子でした。
ChairをされていたCarlton大学のSean Barry 先生に写真を撮らせてもらいました。

https://aldjapan.com/wp-content/uploads/2023/08/ece9e6518595b386e37b67901b2e1919-scaled.jpg

Barry先生はハーバード大学のGordon先生の元で学んだのち、Carlton大学で研究を重ねられ、様々なプリカーサーを開発しております。特筆べきは化学に身を捧げていることが、下記写真のように、よく分かります(笑)。刺青を推奨はしませんが、Barry先生のような使い方であれば、生き様を宣言したかっこいい使い方と思います。
https://aldjapan.com/wp-content/uploads/2023/08/2023-07-26-15.51.28-2-scaled.jpg

カテゴリー
ALD 国際学会 ALE、研究者
2023/06/23 / 最終更新日時 : 2023/06/23 ALD_Japan セミナー

ウェビナー紹介「ALD(原子層堆積法)技術の基礎・入門と応用展開」

奈良先端科学技術大学院大学の教授浦岡行治氏がALDに関するライブ配信セミナー(Zoom)を行います。

日時: 2023年6月28日(水曜) 10:00〜16:00

https://www.science-t.com/seminar/A230648.html

カテゴリー
セミナー、半導体、太陽電池、研究者
2023/06/20 / 最終更新日時 : 2023/06/20 ALD_Japan 半導体

ALDを使用した先端半導体デバイス向けナノシート酸化物半導体トランジスタの開発

奈良先端科学技術大学院大学の浦岡行治先生と東京大学生産技術研究所の小林正治先生によりIn2O3とGa2O3を原子層堆積したマルチレイヤーで良好な酸化物半導体を見つけられたとのことです。これは先端デバイスでのGate All Around構造で使う半導体で、大いに期待されます。東京大学の発表資料は以下より。

https://www.iis.u-tokyo.ac.jp/ja/news/4233/

カテゴリー
半導体、研究者
2023/05/31 / 最終更新日時 : 2023/05/31 ALD_Japan 半導体

ASM社の韓国への投資$100M

オランダの半導体向けALD装置などのメーカーASM社が韓国へ100Mドル(約140億円)を2025年までに投資するとのこと。敷地を2.5倍(製造エリアは3倍)に拡張し、人員も現在の450名から大きく増やす方向とのこと。韓国の国策としての半導体大国化に、リソグラフィーのASML社も工場を建設との発表がありましたが、ASM社も乗った形となりました。現在半導体の価格下落と不景気がニュースになっておりますが、情報量は相変わらず爆発している訳で、そのための布石なのですね。
https://www.asm.com/press-releases/2673894

カテゴリー
半導体、装置メーカー
2023/05/18 / 最終更新日時 : 2023/05/18 ALD_Japan ALE

ウェビナー紹介「ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用 」

奈良先端科学技術大学院大学の教授浦岡行治氏がALDとALEに関するライブ配信セミナー(Zoom)を行います。

日時: 2023年5月26日(火曜) 10:00〜16:00

ALD(原子層堆積)/ ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用
カテゴリー
ALE、セミナー、研究者
2023/03/06 / 最終更新日時 : 2023/03/06 ALD_Japan セミナー

ウェビナー紹介「ALD(原子層堆積法)の基礎と高品質化および最新動向」

東京大学大学院の教授霜垣幸浩氏がALDに関するライブ配信セミナー(Zoom)を行います。

日時: 2023年3月17日(金曜) 10:00〜17:00

https://www.science-t.com/seminar/B230317.html

カテゴリー
セミナー、研究者
2023/02/06 / 最終更新日時 : 2023/02/06 ALD_Japan ALE

シンポジウム紹介「第5回Atomic Layer Process (ALP) Workshop」

大阪大学の唐橋先生より案内がございました。ALD、ALEをなどをALPとして、リアルでのシンポジウムが2月10日(金曜)に開催されます。詳細案内はこちらにて。

カテゴリー
ALE、太陽電池、研究者、装置メーカー
2022/12/14 / 最終更新日時 : 2022/12/14 ALD_Japan セミナー

技術セミナー紹介「ALD(原子層堆積)による成膜技術」

産業技術総合研究所様と北海道大学様が主催にて、ALD技術のオンラインセミナーが12月22日(木曜)12:55~17:20に開催されます。詳細案内はこちらにて。

カテゴリー
セミナー、プリカーサー、装置メーカー
2022/12/06 / 最終更新日時 : 2022/12/14 ALD_Japan セミナー

シンポジウム(講習会)紹介「CVD・ALDプロセスの基礎」

CVD反応分科会(弊社もメンバー)主催にて、CVDやALDのプロセスに関してオンラインシンポジウムを12月9日(金曜)に開催されます。詳細案内はこちらにて。

カテゴリー
セミナー、研究者

最近の投稿

オンデマンド配信の紹介「ALD(原子層堆積法)技術の基礎・入門と応用展開」

2023/08/25

ALD/ALE2023

2023/08/04

ウェビナー紹介「ALD(原子層堆積法)技術の基礎・入門と応用展開」

2023/06/23

ALDを使用した先端半導体デバイス向けナノシート酸化物半導体トランジスタの開発

2023/06/20

ASM社の韓国への投資$100M

2023/05/31

ウェビナー紹介「ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用 」

2023/05/18

ウェビナー紹介「ALD(原子層堆積法)の基礎と高品質化および最新動向」

2023/03/06

シンポジウム紹介「第5回Atomic Layer Process (ALP) Workshop」

2023/02/06

技術セミナー紹介「ALD(原子層堆積)による成膜技術」

2022/12/14

シンポジウム(講習会)紹介「CVD・ALDプロセスの基礎」

2022/12/06

カテゴリー

  • ALD 国際学会 ALE
  • ALE
  • Know-How
  • MLD
  • セミナー
  • その他
  • プリカーサー
  • 半導体
  • 太陽電池
  • 未分類
  • 研究者
  • 粉体ALD
  • 装置メーカー

アーカイブ

  • 2023年8月
  • 2023年6月
  • 2023年5月
  • 2023年3月
  • 2023年2月
  • 2022年12月
  • 2022年11月
  • 2022年10月
  • 2022年9月
  • 2022年8月
  • 2022年7月
  • 2022年6月
  • 2022年5月
  • 2022年3月
  • 2022年1月
  • 2021年11月
  • 2021年10月
  • 2021年8月
  • 2021年7月
  • 2021年6月
  • 2021年5月
  • 2021年4月
  • 2021年3月
  • 2021年2月
  • 2020年12月
  • 2020年11月
  • 2020年10月
  • 2020年9月
  • 2020年7月
  • 2020年6月
  • 2020年4月
  • 2020年3月
  • 2020年2月
  • 2019年12月
  • 2019年11月
  • 2019年10月
  • 2019年8月
  • 2019年7月
  • 2019年6月
  • 2019年5月
  • 2019年4月
  • 2019年3月
  • 2019年2月
  • 2019年1月
  • 2018年12月
  • 2018年11月
  • 2018年10月
  • 2018年9月
  • 2018年7月
  • 2018年6月
  • 2018年5月
  • 2018年4月
  • 2018年3月
  • 2018年2月
  • 2018年1月
  • 2017年12月
  • 2017年11月
  • 2017年9月
  • 2017年8月
  • 2017年7月
  • 2017年6月
  • 2017年5月
  • 2017年4月
  • 2017年2月
  • 2017年1月
  • 2016年12月
  • 2016年10月
  • 2016年9月
  • 2016年7月
  • 2016年6月
  • 2016年5月
  • 2016年3月
  • 2016年2月
  • 2016年1月
  • 2015年12月
  • 2015年9月
  • 2015年7月
  • 2015年6月
  • 2015年4月
  • 2015年2月
  • 2015年1月
  • 2014年10月
  • 2014年9月
  • 2014年4月

Copyright © ALD Japan, Inc. All Rights Reserved.

Powered by WordPress & Lightning Theme by Vektor,Inc. technology.

MENU
  • ホーム
  • 原理
    • アプリケーション
    • プリカーサー
    • ALE – Atomic Layer Etching
  • ハードウエア
    • 粉体用ALDコーティング
    • オゾンやプラズマについて
    • その他ハードウエア
  • 製品
  • お問合せ
  • ブログ
Translate »