JVST A 2019 Best ALD Paper

2019年10月に発表されたのですが、芝浦工業大学の前田瑛里香氏（清野肇研究室、共同研究機関：物質・・材料研究機構）が Journal of Vacuum Science & Technologyの昨年のベストペーパーに選ばれました。日本勢の活躍が少ないので、とても嬉しく思います。

タイトル：Correlation between SiO₂ growth rate and difference in electronegativity of metal–oxide underlayers for plasma enhanced atomic layer deposition using tris(dimethylamino)silane precursor

著者：Erika Maeda^1,2,a),  Toshihide Nabatame, Masafumi Hirose, Mari Inoue,  Akihiko Ohi,  Naoki Ikeda, and Hajime Kiyono