ALD/ALE 2020 バーチャルミーテング

キャンセルとはなりましたが、6月29日から7月1日にバーチャルミーティングが行われます。以下そのプログラム内容になります。登録画面

6月29日 月曜　朝 (無償)

下記の時間は全て米国東海岸の時間帯です。（日本時間は深夜から早朝にかけて。下記の時間に13時間加えて下さい。録音したものも視聴可能ですので、リアルタイムでの参加でなくとも視聴可能です。）

10:00 総会＆ALDイノベーションアワードセッション　歓迎挨拶　C. DETAVERNIER （ベルギー、ゲント大学）

10:15 （招待講演）ALDイノベーションアワードセッション受賞者 MIKKO RITALA（フィンランド、ヘルシンキ大学）

10:30: （招待講演）未来のナノエレクトロニクスを可能にする選択的原子スケールプロセス（米国、TEL Technology Center America）

11 :00 （招待講演）ディスプレー産業におけるALD技術の最初の用途（韓国、LG Display）

11 :30 （招待講演）触媒用粉体へのALD（ドイツ、BASF SE）

12:00 （招待講演）アトミックレイヤーエッチング（ALE）- その舞台裏（米国、Lam Research）

12:30 JVST ベストペーパー、閉会の辞、スポンサーへの謝辞C. DETAVERNIER （ベルギー、ゲント大学）

6月30日 火曜　朝

10:00 歓迎挨拶と紹介　歓迎挨拶　C. DETAVERNIER （ベルギー、ゲント大学）

10:15 （招待講演）非酸化還元剤を使った新規メタル膜の熱式ALD（米国、Wayne 州立大学）

10:45 混合：ALDによる２次元Mo1-xWx-S2合金での元素配列の調整方法（オランダ、アイントホーフェン工科大学）

11:00 EDOTとReCl5プリカーサーを使った導電性PEDOT 薄膜形成（フィンランド、ヘルシンキ大学）

11:30 ハロゲン化したアモルファスカーボンのローカル表面改質に基づくレジストを使わないリソグラフィー（ベルギー、ルーベン・カトリック大学/IMEC）

11:45 MLDにより成長させた新規薄膜で機能性を持たせた模倣キチンとキトサン種（スペイン、CIC nanoGUNE BRTA）

12:00閉会の辞、スポンサーへの謝辞C. DETAVERNIER （ベルギー、ゲント大学）

6月30日 火曜　午後　チュートリアル

13:00 歓迎挨拶と紹介　歓迎挨拶　C. DETAVERNIER （ベルギー、ゲント大学）

13:15 （招待講演）ALDプリカーサー化学：　プリカーサーの合成過程、精製と評価方法（ドイツ、ルール大学ボーヘム）

14:15 （招待講演）アトミックレイヤー工学：ALDシステム設計とプロセス開発のためのハードウエアの考察（米国、ミシガン大学）

15:15 （招待講演）高アスペクト比とナノ構造材料に関するALD: 原理から商業化まで（米国、Argonne National Lab）

16:00 Q&Aタイム 上記講師陣

7月1日 水曜　朝

10:00 歓迎挨拶と紹介　C. DETAVERNIER （ベルギー、ゲント大学）

10:15 （招待講演）ガスクラスターイオン衝突で誘導したメタルとジケトン間の表面反応（日本、兵庫県立大学）

10:45 ALE受賞者

11:15 成膜とエッチングを同時に行うことによるメタルMo膜の超コンフォーマルなALD（ドイツ、EMD Performance Materials (Merck group)）

12:15 マシーンラーニングを使ったALDの最適化（米国、Argonne National Lab）

12:30 ALD/ALE学生表彰、閉会の辞、スポンサーへの謝辞C. DETAVERNIER （ベルギー、ゲント大学）

7月1日　水曜　午後　チュートリアル

13:00 歓迎挨拶と紹介　歓迎挨拶　Erwin Kessels（オランダ、アイントホーフェン工科大学）

13:15 （招待講演）ALD中における成長メカニズムと選択性（ベルギー、ルーベン・カトリック大学）

14:15 （招待講演）材料プロセスの原子レベルの制御のための自己制御表面反応（米国、Schrodinger社）

15:15 （招待講演）ALEの基礎（米国、ミシガン大学）

16:00 Q&Aタイム 上記講師陣

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