ALD2016 プログラム – 用途と材料による分類
国際学会ALD2016のプログラムを用途と材料をピックアップしてみたいと思います。原題の翻訳となっているところも多々あります。あくまでALDの多様性を見るためのものですから、詳細の理解に不具合を含むことご承知おき下さい。（遅くなりましたが、終了しました。）
ALD原理（プリカーサー、化学、シミュレーション、モデル化、理論）
Wの核形成
HfO2 プリカーサー検証
エントロピー法則による表面反応
金属—酸素膜用のグラフェン層シミュレーション
Cuシミュレーション
TaN 流動ダイナミックシミュレーション
大面積３次元構造でのモンテカルロ法シミュレーション
TMAの核形成と成長反応
プリカーサーの量子化学設計とスクリーニング
Co選択成膜のコンピューター化学を使用した把握
ALD量産技術（反応室と装置設計）
クラスターシステム
高速空間式ALDにおける自己制御条件の決定
プラズマALD用ECR源のよる窒化プラズマ
バブラー性能での熱伝導の役割
ALD応用（バッテリー、エネルギー保存）
Li-O2バッテリー TiO2、マルチウオールCNT
Liイオンバッテリー V2O5、プラズマと熱式
水の脱塩 MgOx、電荷保持
Liイオンバッテリー ALD表面処理によるLi金属アノードのサイクル寿命の改善
Liイオンバッテリー 固体反応による遷移金属酸化物含有リチウム
次世代Liイオンバッテリー ALD-LiPONを使ったアノード保護
3D Liイオンマイクロバッテリー FeP 正電極
ALD応用（触媒と燃料電池）
触媒、光電気化学、水分解 NiO2
燃料電池、加水分解脱水素 TiO2/Pt、
燃料電池、電極触媒 Ptナノパーティクル、グラフェン上
燃料電池、水素化 Ptナノパーティクル、MIL-101籠形内包
NO還元 触媒 PtコートSmMn2O5
電極触媒、酸素発生 CoS, NiS
燃料電池 Ptナノパーティクル、ナノファイバーへの付着
光化学反応用途 TiO2被覆ZnOナノ構造体の化学的安定化
水還元電極 FeOx、ナノポーラス構造
燃料電池 Ptナノパーティクルを酸化膜コーディング
エタノール電気還元反応 SnO2/TiO2ナノチューブへのPdナノパーティクル成長
酸素還元ナノ触媒 Cu3N
PEMFC（プロトロン交換） Pt/TaNナノパーティクル
水素発生電極触媒 MoSナノ構造
酸素還元触媒 ZrO2やCeOxコーティングしたAg
触媒 金属酸化物界面制御
触媒 Ptナノパーティクル、熱式ALD
PEM燃料電池 ALD利用
ナノ構造合成と製造（選択的ALDとパターンニング）
プラズモニックナノ構造
OLED ガスバリア層
直描ALD In2O3-H, マイクロプラズマプリンター
自己配列選択的ALD 新提案
等方性ALE SiN
選択的ALD CuやSiO2上での気相成膜自己組織化
プラズマ利用の選択的ALD
酸化剤の役割 ポリマー膜上でのAl2O3
選択的成膜 HfO2上へのTiN成膜
ナノパターンニング Al3O3 (アルミニウム原子が３つ)
自己配列マルチパターンニング シリコンプリカーサー
サブ10nmのナノ製造 自己配列ダブルパターンニング
選択的ALD ZrO2, Pdナノパーティクルコーティングの熱安定性
基板選択性 ALD-W、核形成のメカニズム
ALD原理（プリカーサーと化学：原料供給システム）
H2O2とオゾンの比較 ZrO2
低蒸気圧固体プリカーサーの蒸気供給の要因分析
DCバイアス電圧での薄膜特性の調整
ALEワークショップ
フッ化炭素成膜のオゾン切替え ALE-SiO2
中性原子ビーム利用
過フッ化炭化水素 ALE-SiNx
低電子温度プラズマ利用
連続的、自己制御反応を使った熱式ALE
プラズマ源構成の表面プロセスへの影響
ALD応用（太陽電池材料）
EBIC測定精度改善のため Al2O3 パッシベーション
水分解用フォトアノード 保護膜
ペロブスカイト型太陽電池 電子輸送層
高速伝導度 In2O3:H
ヘテロジャンクション太陽電池 吸収材としての金属カルコゲナイト
透明電極膜 Ta-doped ZnO
CIGS太陽電池 パッシベーション
透明電極膜 ドープされたZnO
光触媒 CuOx-TiO2混合フィルム
太陽電池 アモルファスSnSx
CIGS太陽電池 Ga含有硫黄化物
太陽電池 Al2O3 パッシベーション膜
有機-金属ハライドペロブスカイト型太陽電池
透明電極膜 ZnOSx
ナノチューブ光活性ジャンクション p-NiO/i-Sb2S3
太陽電池 Al2O3パッシベーション
In2O3 & In-doped ZrO (IZO)
Al2O3、プラズマ窒化での熱特性
P型CuxSベース材へのAl-OとAl-Sサイクル
ペロブスカイト型太陽電池 ZnOの配向性の役割と組成
n型モノクリスタルSiウエハー上でのトンネル酸化膜の表面パッシベーションの影響
トンネル層の絶縁膜：トンネル活性な厚みでの固定された電荷の理解
水分解 Znフェライト薄膜フォトアノード
ALD原理（プリカーサーと化学：原料設計、新プリカーサー、レシピ開発）
200mmウエハー上のレアアース酸化物
アミニデートプリカーサー使用 Co, Ni, FeS
CuBr
p型金属酸化物半導体材料 RuとRuO2
フッ酸を使用しない方法 F-doped SnO2
分解しないプリカーサーを利用したALD
高速プリカーサースクリーニングのためのALD装置
カルベン安定化銅アミドプリカーサーを使ったメタルCu
Coプリカーサー Co
揮発性かつ反応のある環状アザシランプリカーサー
HfCp(NMe2)3 とH2O プリカーサー HfO2、直描液体噴射ALD
Siプリカーサーの観点からのSiNxのステップカバレージとエッチ特性の改善
新還元方式を利用したメタルTaの低温熱式ALD
低温オゾン利用のALD-Co3O4薄膜
ZnO薄膜用のケトイミンの分子エンジニアリング
Hf(EtMeN)4とO2プリカーサー HfO2、直描液体噴射ALD
無水ドドラジン供給 低温SiNx パッシベーション膜
Alグアニジナートプリカーサー AlN、プラズマALD
金と銀の熱式ALD Au, Ag
CVD-ALDからの第13族元素の窒化膜ベースエレクトロニクス
テクノロジーノード5nm, 7nm用のIII-V化合物やGeのウェット型ALE
ALD量産技術（反応室モデリング）
流動ベッド式パウダーALDコーティングのオイラー多相モデル
ALD応用（ULSI FEOL & BEOL, ゲート電極）
GaN-on-Si MOSキャパシター 界面制御、ALDとPEALDの比較
GaN-on-Si MOSキャパシター Al2O3ゲート絶縁膜
FinFET TiAlC, 熱式ALD
ALD応用（ULSI FEOL & BEOL, インターコネクト）
インターコネクト Cu, 厚さ3nm未満
インターコネクト Ru-Mn合金、直接Cuメッキが可能になる拡散バリア層
Cu 拡散バリア層用 CとN-doped Ta-N-O
Cu 拡散バリア層用 TiC (材料：TiCl/TMA)
ALD応用（ULSI FEOL & BEOL, 3Dトランジスタ作成）
垂直統合型で、超高密度なデバイスと機能を持たせることに向けたALD技術
薄膜トランジスタ ZnSnO
ALD とALE を使った未来のIC製造
PEALD-SiO2へのアンチモンを使ったゲルマニウム単層ドーピングのためのNH3キャッピング
ALD原理（膜成長と最適化：ALDのための表面処理）
H2Oプラズマの適用と特性 ZnO
ALD成膜前の表面修飾効果
GaN基板（Ga極とN極）とHigh-k絶縁膜における表面処理の影響
ALD-HfZrO2/InGaAs MOSキャパシターへのDEZ-H2O処理による反転挙動
ALD応用（ULSI FEOL & BEOL, コンタクトメタル）
ガスセンサー用多孔基板へのALD成膜 Pt
Ge上へのショットキーバリアコンタクトのALDパッシベーションによる調整
ALD原理（膜成長と最適化：その場観察と分析）
MoS上へのALD-Al2O3成膜のFT-IR 分光測定
パウダーへのALD時のマイクロバランス（熱磁気サスペンション方式）を使った質量分析観察
金メタルALDの光学観察—超高感度プラズモニック光ファイバーセンサー
TiOx, ZrOx, PdOxのALD成長のエリプソメータ観察（ALD-PZTに向けて）
ALD-Ta2O5の成長プロセスと抵抗スイッチングの特性
赤外線や電子分光を使ったALD装置、III-V族半導体やゲート酸化膜への応用
すれすれ入射角の散乱X-線を利用したAlN原子層エピタキシー成長の特性
芳香族で線状有機プレカーサを使用したMLD（分子層堆積）プロセスのQCMとXPSを使った比較
トリメチルゲルマニウムとアンモニアの繰返しパルスによるGa, CとNを含む薄膜の成膜
真空X線光電分光によるRu (RuO2) 初期成長の研究
PbZr0.52Ti0.48O3薄膜のためのALD-Pt/TiO2のエリプソメータ分析
ALD成膜中のマイクロチャンネルの抵抗を制御するためのその場観察
メタルALD成膜中の干渉強化による分光エリプソメータ観察
Al2O3上へのPd成膜の低エネルギーイオン散乱(LEIS)分析
リアルタイム分光エリプソメータでモデル化したプラズマALD-Bi2O3のプリカーサー吸着とリガンドの分離
水素吸着と分離プロセス中でのシリコン再構築での内包ストレスのリアルタイム計測
低温SiNx成膜のためのトリメチルアルミニウムの役割、TMA投入への成長依存
プラズマ励起水蒸気を使用したZrO2の室温ALD成膜
２次元遷移金属ダイカルコゲナイトデバイスのALDとPEALDの影響
ALDナノ合成層の核形成の影響と電気／光学特性
InNのプラズマ原子層エピタキシーのリアルタイムGISAXSを使った窒素プラズマパルス時間の効果
ナノ構造合成と製造（ナノチューブ、ナノワイヤー、ナノポア）
メタルの１次元チューブ上ナノ構造 – Liイオン２次電池のアノード用酸化膜
ALDで作成した低密度メタル酸化膜バルク材の型板
３次元ナノスケール基板 – ナノワイヤー、ナノチューブ、ナノポア
PBATファイバーへのALD-TiO2成膜： 材料加熱時の材料特性とTGA分析
螺旋状ナノポア構造を持ったブロックポリマーメンブレンへのALD成膜：規則的ナノ構造を持つ蒸気センサーに向けて（ナノポアとナノロッドの比較）
ナノマテリアル設計からメンブレン用途へ向けてのALD
自己組織化TiO2ナノチューブレイヤーのALD成膜
ALDと蒸気充填を利用したBNメンブレン
中赤外光プラズモニックでの反応部に使うAlドープZnO高アスペクト比ナノワイヤーとトレンチ製造
アルミナ薄膜メンブレンの表面修飾
ALDと水熱成長を使った階層構造を持った酸化ナノ構造
３次元用途のためのALDを使った高アスペクト比構造
ALD-HfO2でパッシベーション成膜しあZnOナノロッド高性能光検知器
エレクトロスピニングと低温PE-ALDで製作したフレキシブルなコアシェルナイロン／III窒化膜ナノファイバーの光触媒反応性
MLD（分子層堆積）で作成した穴サイズと界面接合を制御して多孔性Fe2O3ナノチューブ
ALDによるZnOコアシェルナノワイヤーの構造とフォトルミネッセンス特性プラズマALDを使ったSi基板上にIII窒化膜ホローナノシリンダー配列の型利用作成方法
軟X線用途のためのALDを利用した超微小ピンホール作成
ALD応用（ULSI FEOL & BEOL, High-k用途）
BEoLキャパシター LaドープZrO2
無水H2O2利用 HfO2
パッシベーション層やHfベース絶縁層を施したGe基板に関する温度の影響と電気特性
フォトディテクターと深いトレンチによる分離用のメタル酸化膜の特性
InGaAsやGaN上へのオゾンを使用した低温（100℃）ALD-ZrO2
InGaAs MOS用途での絶縁構造
ALD-ZrO2へのGeドーピングした際の絶縁特性への影響
Ge基板へラディカルALDで成長させたAl2O3/GeO2ゲートスタックの電気特性への電極メタルと熱処理の影響
GsAs (001)への単結晶ALD-Y2O3の低境界トラップ密度について
ALD-ZrO2ゲート絶縁膜を持つIn-Si-O TFTの低駆動電圧とVonチューニング
超薄膜ALD-Al2O3とポストメタリゼーションアニールに基づく、MISキャパシターのキャリア導電メカニズムの評価
ALDによる無機high-kゲート酸化膜を使った有機電子デバイス
high-k TiO2誘電体用途のGe基板へのパッシベーション層の効果
CMOS用途のためのGe MOS キャパシターのPEALD-ZrO2パッシベーション
AlGaN/GaN基板へのPEALD-Al2O3 ゲート絶縁薄膜： 表面プレ成膜処理の役割
ALD-Al2O3/GaAs界面へのポスト成膜アニール処理の影響
ALD原理（成長と特性： ALD成膜の特徴）
基板が物理的薄膜の特性へ及ぼす影響 Al:ZnO
GaN MOSデバイスのゲート酸化膜 Al2O3/SiO2
TMAや他の酸化材のガスバリア評価、空間的ALD Al2O3
DSBASとN2プラズマプリカーサー使用 SiNx
紫外線宇宙望遠鏡 AlへのALD-フッ化メタルコーティング
bis[bis(triemthylsily)amino]tinと水又はオゾン SnO2
IrOx
Li Tert-Butoxide とメタルフッ化材プリカーサー LiF
Tetra ethyltinと酸素プラズマ、H2O2, オゾン SnO2
InAlN/GaN, AlGaN/GaN 半導体でのゲート絶縁膜 Ti-Al-O, Ti-Hf-O
カーボンファイバー TiS
ステンレス綱用腐食保護 TiO2, Al2O3又はマルチレイヤー
エピタキシャル成長と相組成への基板温度の影響 ALD-TiO2 on αAl2O3 (001)
ALD膜の抗菌性と防汚性
300mmウエハー用電子ビーム直描自己組織化ダブルパタニングプロセスのスペーサー作成 SiO2
種々表面分析技術を使用したALD層と成長の性能付け
PE-ALDでの水と酸素を使った酸化材の比較 TiO2
インラインXPS研究、酸化状態の制御 TiO2
ZnS
残留応力へのプリカーサーの影響 Al2O3, TiO2
高アスペクト比へのプロセスの実験とシミュレーションの検証
湾曲マイクロチャンネルへのALD成膜
還元酸化グラフェンとMEMSの作成、高温アニールの影響 Al2O3
HPNプリカーサーを使用 NiO
３次元遷移金属酸化ナノフィルムの成長
ポリウレタンやシリコンへのTiO2薄膜成長（バイオ）TiO2
メタルインスレーター相転移の電気的、光学的特性 V2O
低温プロセスでの界面工学に基づいた爆発的結晶化 TiO2
レーザー溶融3次元プリンターで作ったステンレス綱へのALD成膜中の界面の課題
ホローカソードプラズマALDでの２層III-窒化膜でのN2/H2とN2プラズマの影響
プラズマALDの赤外誘導機能、フォノンモード、バンドギャップ特性 InxGa1-xN
タイムフォトン検知用低応力ALDアルミナメンブレン Al2O3
使用温度が広範囲な次世代MCP用低TCR-ALD
低温プラズマALD、蒸気バリア層 SiNx
機械特性 TiN/AlN
成長の初期間での展開 ZnO
低温プラズマALDでの結晶構造 TiO2
２層の各境面にAl2O3の部分的単層を施したTiO2/Al2O3ナノラミネートの光学特性
ALDで作成した薄膜の残留応力
ALDキャップングした無機有機薄膜用の強化型ラマン信号 TiO2
走査型ケルビンプローブ AlドーピングZnO
プラズマALDの機械的、組成特性に関わるパラメーターの検証 AlN
200mmウエハー用100 – 220℃温度での自己制御と高速成長 Al2O3
薄膜とナノパーティクルでの半導体メタル遷移 V2O
UV天文学、天文物理学用の固体イメージャー
分子堆積法よる製品への構造的サイズの影響とその応用
カーボンナノチューブへの薄膜堆積の表面と界面 TiO2
ALDを使った透明ポリミドフィルムへのAl2O3/ZnOマルチレイヤーの表面 Al2O3/ZnO
分子堆積法によるシリコンカーバイドへの成膜合成 V2O, CrOx
Si基板へのプラズマALDによるGaNナノ構造での時間依存フォトルミネッセンスの特徴
ALDコーティングを曲げた場合のクラックの発生と分布
ALD 成膜した酸化膜のアニール条件による位相の影響 V2O
ホローカソードプラズマALDで成長させたGaN薄膜の可視光、UV光、赤外線特性における膜厚の役割 GaN
TEMAHfプリカーサー、低温プロセスので結晶化に関する酸化材の役割 HfO2
ナノワイヤーへの熱式とプラズマALDの比較
プラズマALDでの調整可能な機能 窒化メタル
ヘテロジャンクション、価電子帯と導電帯のオフセット Al2O3/ZnAlO
ALD応用（ULSI FEOL & BEOL, Low-kスペーサー）
プラズマALDによる耐フッ酸薄膜 SiN-AlN
ALD基礎（膜成長と最適化：高コンフォーマルプロセス）
多孔質基板への大気圧ALD、ステップカバレージへの圧力の影響
医療デバイス向けポリマー材への生体適合性保護膜
AlNを用いたPE-ALD SiNの成膜レートとステップカバレージの改善
高アスペクト比陽極TiO2ナノチューブ、前例のないALDの機能付与能力
高コンフォーマルTiN
異なる基板への液体噴射ALDによるナノ構造を持った銀薄膜の成長
ALD-Ptコンフォーマル性へのオゾンの再結合の影響
ALD基礎（膜成長と最適化：ALDの表面化学と成長始動）
Tributyltin ethoxideプリカーサーとオゾンを使ったALD-SnO2
TMA-水 ALDプロセスの表面化学のいくつかの解釈の比較
２つのプリカーサーを使ったPE-ALD InAlOx のAlドーピング制御の効果
ALD-Pt薄膜の平滑性制御
ALDによる表面飽和、開放時間、サイクル数の決定方法
室温での電子ビームALD (EE-ALD) によるシリコン薄膜
走査型トンネル顕微鏡のALD核形成観察のための、SiO2単層膜の作成
WナノパウダーへのALD-Al2O3成長
過酸化水素（H2O2）ガスを使ったALD核形成と成長始動の改善
振動SFG (sum-frequency generation) 分光を用いたALD-Al2O3 の初期成長の研究
ALDによるアンチモン極薄膜の核形成
SrTiO3 (001)へのALDによる配向性を制御したPt膜の成長
金属基板へのALD-Coメタル薄膜の選択的成長
シリコンアミドからのPEALD-SiNxの表面反応
メタルALD薄膜での有機金属プリカーサー化学の表面科学
単結晶(In)GaAs 表面へのALDによる絶縁酸化膜のシンクロトロン放射光照射研究
RuとRuO2のALD、絡み合う特殊なケース
先端インターコネクト用コバルト層への熱式ALD-メタルCu
ALD基礎（膜成長と最適化：PE-ALD（プラズマ式ALD））
蒸気防止バリアフィルム用空間式ALD – Al2O3 & ZrO2
水素プラズマ処理を利用したVO2膜の調整された特性
プラズマアシストALDによるSiCxNy成膜時のカーボンの挙動
空間式プラズマALDで成膜した導電性SnOxガス拡散バリア層
プラズマALDを使用したコンフォーマルな金ナノパーティクルコーティング
プラズマALDによるHfN膜の導電性制御 （供給ガス組成とバイアスの役割）
SRF(Superconductive radio frequency)キャビティー用プラズマALDの開発
ホローカソードプラズマALDによるp−Si基板上へのAlN膜の絶縁性
ALD, CVDとFASTによって成膜したTiN膜でのプラズマへの２つの周波数をかけた場合の影響
O2/N2のRF容量放電によるプラズマALDでのアルファーガンマモード転移の影響
CSN-2を使用したSiNの低温プラズマALD成膜でのプラズマ反応の効果
III族窒化膜の容量結合プラズマALD成膜後の熱式アニール処理での展開
プラズマALDとプラズマCVDを使ったガスバリア膜 — ポリマー上へAl2O3 & SiO2膜をつける複合アプローチの調査
水素ラジカルによるプリカーサー還元のリアルタイムエリプソメータ観察 — プラズマALDによるアルミ薄膜の検証
大面積で高品質なTiO2のプラズマALD成膜
プラズマALDによる ウルツ鉱InN薄膜の低温自己制御成長の最適化
プリカーサー [Cu(iPr-amd)]2と水素プラズマを利用したCuのALD成膜
PE-ALD成膜中のポリマー上へのTiO2の核形成 — プリカーサーの影響とガスバリア特性
縦型TFTへのプラズマALDを使用した高品質な酸化物半導体薄膜
プリカーサー Co(dpdab)2を使ったCoのプラズマALD成膜
in-vitro またはin-vivo バイオメディカルやライフサイエンス用途のための透明カーボンベース電極用の金属触媒フィルムのプラズマALD
MoNのプラズマALD成膜
プリカーサーTDMASを使ったSiO2プラズマALD成膜
超電導NbN膜のプラズマALD成膜
ZnSのプラズマALD成膜
アモルファスカーボンのプラズマALD成膜
低温プラズマALD成長のGaN薄膜の成長過程と材料特性への基板の影響
triethylgalliumとN2/H2プラズマプリカーサーを使用したウルツ鉱GaN薄膜の自己制御ホローカソードプラズマALD成膜
窒素源としてのAr/N2/H2 のRFプラズマを利用したALDによるAlNとSi基板の明確な境界
低温プラズマALDプロセスによるSiNx薄膜
プラズマALDによるTiOxNyのシンクロトロンベースの光電分光研究
低温フレキシブルエレクトロニクス用途向けALD成膜したGaNチャンネルを持つ薄膜トランジスタ
プラズマALDのトレンド
ALDを使用したInxSy-Inx(S.O)y合金のXPS分析 — 薄膜化学とプラズマ反応
ALEワークショップ（エッチング）: 表面化学反応
リモートO2プラズマ、２ステップ MoS2
SiC上の酸化アルミの原子制御 Al2O3
TMAとHFの連続露出の使用 ALD-AlF3とALE-Al2O3
ALD-FeOxナノチューブアレイの磁性制御 ALD-FeOx
プラズマエッチと成膜の高速繰り返しプロセスでの表面化学
ナノスケール表面処理による銅回路と陽極アルミナ間の接合力の強化法
３次元モンテカルロモデルを使ったALEやRIEの中性子輸送の役割解析
TiO2膜の低温選択的WFガスの化学気相エッチング
連続的、自己制御熱反応を使ったALEの選択性
ALD応用（メモリー用途： フラッシュメモリー）
ALDを利用した幾つかのチャージトラップメモリーの特性
High-kマルチレイヤーを持つキャパシター用のZrO2 と(Ta/Nb)xチャージトラップ層のトラップメカニズムの比較
フラッシュメモリー用の制御された酸化膜のALD 成膜
ALD応用（メモリー用途： DRAM）
DRAMキャパシターのためのTiO2のALD成膜中のRuO2還元を防止するためのSnO2 薄膜の採用
高機能電極レイヤー用途としてのNi amidinateからニッケルと窒化ニッケルのALD成膜
DRAMキャパシター用途のcyclopentadienylベースプリカーサーを使ったSrTiO3薄膜のALD 成膜
SrTiO3絶縁膜用SrRuO3/Ptの２層電極の成長と電気特性ZrO2/(Ta/Nb)Ox-Al2O3/ZrO2ナノラミネート絶縁スタックのリーク電流特性改善
ALD基礎（新規材料：MLD（分子層堆積））
アクリルベース有機薄膜
Vanadicone – バナジウムベースハイブリッド材料、Liイオン電池用電極
単機能、芳香族化合物とリング開放反応に基づいた低温MLD
ポリミドMLDの300mmへのスケールアップ
カスタムオーブンでの新型回転シリンダー反応室を使った空間式MLDによるポリアミド薄膜
バイオアクティブな特性を持つインプラント製造をするためのML & ALD を使ったチタン表面のナノ剥離の規則性
ALD量産技術（大面積ALD成膜）
ルゲートフィルター用のALDベース3次元NIRフィルターと屈折率制御
セルロース紙へのAl2O3のALD成膜
世界一透明な表示器の開発 — ALDによる改善
ナノ構造合成と製造（ナノパーティクル）
Pt：ALDで成長させたナノパーティクルの熱式アニール処理中での形成過程の安定化に関する研究
Pt: ナノフォトニックデバイス用途でのナノパーティクルの形成
ZnO：染色吸着のためのpolytetrafluoroethyleneメンブレンへのナノパーティクル形成
表面改善ラマン散乱用途の、ナノサイズのギャップ調整が可能な２層構造金属ナノパーティクルのALD援用形成
電界下のcyanobiphenylでの液晶層の構造的、光学特性への変質
Ag：コンフォーマルなナノ構造の銀薄膜の自己制御化ALDの材料試薬の影響
Pt & Pd：大表面積基板へのALD成膜におけるナノパーティクルの寸法分布の発達過程
ALDによる超吸収メタル=絶縁=メタルスタックの成長
Au/TiO2: AuナノパーティクルへのTiO2室温プラズマALD成膜
ALDによるナノ構造パーティクルの量産展開
Pd：PROX反応のためのPd@Ptコアシェルの選択的ALD成膜
Lu: ナノパーティクルへのLu 薄膜成膜
Ag：ALDによる銀ナノクラスターで修飾したTiO2ナノチューブやナノワイヤーコーティング — 外科インプラントでの生体適合表面処理
エネルギー関連用途での遷移金属酸化ナノパーティクル
ALDチャンバーへの原子精度のドット成膜へ向けた、真空下での均一広角スプレー噴霧技術
ALD応用（メモリー用途： RRAM）
メモリスタ用のALDによる金属酸化２層 — スイッチング動作のスタック順序とマイクロ構造の影響
ReRAM 用絶縁膜とメタル膜のALD/PE-ALD
人口知能用途向けALDを使用した酸化膜ベースの抵抗スイッチングデバイス
抵抗スイッチング特性を示す酸化膜のALD
フッ素ドーピングを使った空孔工学を通じたALD-Ta2O5膜の改善抵抗スイッチング
安定化と性能が改善されたナノラミネートHfO2ベースのOxRAMデバイス
CoPtxナノ結晶を使ったAl2O3ベースの抵抗RAMのALD成膜と抵抗スイッチング特性
ALD応用（メモリー用途： その他の不揮発メモリー）
塩素フリーの液体Ge(II)プリカーサーを使用したGe-Sb-Te薄膜のALD成膜
ALD-TiO2薄膜メモリスターへのAlドーピングの効果
プラズマALDによるナノスケールHf0.5Zr0.5O2 膜の強誘電性
強磁性HfO2ベースキャパシターの揮発メモリー特性へのALDプロセスのインパクト
ALD-酸化鉄での結晶相変化に基づいたメモリスター
全てPE-ALDで製作したメタル=絶縁体=メタルスタックでのLaドープしたHfO2層の構造的、強誘電特性
３次元磁性データ保存のための構造ナノワイヤー配列のシステム工学
ALD基礎（新規材料：磁性体）
高電導性p型酸化物のALD成膜
磁性材料のエリア選択性成膜
電磁結合強化のための、ALDによる強誘電性があり、強磁性のヘテロ構造の準備
ALD基礎（新規材料：パウダーへのALDコーティング）
セラミックやポリマー粒子へのALDによる表面修飾のユニークな手法
固体医薬パウダーへのALD成膜
低温ALDによる高性能Pt/グラフェン触媒
流動化ベッド反応室でのALDによるアルミハイドライド粒子のパッシベーション
TiNのプラズマALDコーティングによる表面修飾されたTiO2粒子の可視光光触媒特性
ALEワークショップ（エッチング）: 低エネルギーの分布と制御
InGaAs のALE
ALD基礎（新規材料：原子レベルエピタキシーとドーピング）
Hf-Ti-OxのALD
SnTiOx のALE：環境神話性のある鉛フリーペロブスカイト強誘電体に向けて
量子井戸窒化ベースデバイス用の原子層エピタキシー
ALDによるGaドープしたZnO層
ALDによる薄膜ドーパント源を使用った高アスペクト比シリコン構造のドーピング
ヘテロエピタキシャルGaNへのエピタキシーALD成長とZnOとn-ZnO:Al膜の特性
ALD-Y2O3/Al2O3 ナノマルチレイヤーを利用した、GaAsやGaNへのイットリヤアルミペロブスカイトの形成
ALDによるHigh-k酸化物 − 生物学や医療での応用
ALD-アルミドープTiO2薄膜の電気特性へのドーパント分布の影響
SiプリカーサーとしてBTBASを使った低温プラズマALDドーピング
m−ZnのALDエピタキシャル薄膜の成長における酸化調整
薄膜トランジスタ向けに物理的、電気的特性を改善したNbドープZnO
ALDで成長させてエピタキシャルZnO/AlOxの超格子： 構造上の展開
ALD基礎（新規材料：有機と無機ハイブリッド材料）
ALD-TiO2でコーティングしたコラーゲン：骨移植用の新規生体材料結晶性鉄と有機ハイブリッド薄膜
分子層堆積(MLD)を使った２次元遷移金属ダイカルコゲナイドへの有機−無機ハイブリッド超薄膜の絶縁膜形成
薄膜有機メタル形成のためのダイレクト１ステップALD/MLDプロセス
分子レイヤー化手法を使ったPTFE（ポリテトラフルオロエチレン）フィルムのエレクトレット特性
マルチパルス充填によるケブラーポリマーの耐熱安定性とUV耐性の改善
ALD/MLDによる結晶リチウムベースのハイブリッド有機−無機薄膜への洞察
チタニア/フルフラールアルコールハイブリッド材料のMLDと、その後の別分解によるチタニア／カーボンハイブリッド材
ALD—＞MOF （有機金属構造体）への変換のための表面反応メカニズム
MLDを使ったアルコンハイブリッド有機−無機薄膜の安定性の問題の理解
ALD量産技術（空間制御ALD）
高スループットコーティング用途むけ大面積シートtoシート空間的ALD
高表面面積をもつ材料に関する空間的ALDのマルチスケールシミュレーション：化学反応の役割と基板追随性
先端薄膜スタックの高速開発のための、非接触、サイトのアドレス指定可能なALD
多孔質材やファイバー状材料の連続Al2O3コーティング用のロール2ロール、通過フロー、空間的ALD
Al2O3/ZnOナノラミネートの空間的ALD
150mmウエハーへの室温でのSiの空間的電子ビーム援用ALD (SEE-ALD)
ナノ構造合成と製造（ナノラミネート２次元ナノ材料（遷移金属ダイカルコゲナイドを含む）
ALDとCVDによる2次元WS2：成長過程と２次元結晶構造へのインパクト
遷移金属ダイカルコゲナイド材料とデバイスのALD
勾配する組成をもったALD薄膜
プリカーサーMo(thd)3とH2Sから作成したMoS2のALD
アニール温度に依存したALD作成TiS2の特性
ALD による多層フレネルゾーンプレートの作成
機能性ナノシートとALD
パルスCVDによるプリカーサー制御したウエハースケールのMoS2の成長
WO3/SiO2基板のセレン化による大面積WSe2層の準備
PLDパルスレーザー成膜によるMoS2成長におけるAlNバッファー層の影響
MoS2の成膜に関する硫黄（S）ソースの影響
ALDで合成したPbTe1Se/PbSe量子ドット超格子の熱電特性
ALDによるウエハーサイズのMoS2 薄膜の成長
ALEワークショップ: ダメージフリープロセス
電子ビーム励起プラズマ：ALEtに向けた電子の超低温
マイクロ波ECRプラズマ中の低ダメージアンダーレイヤーALE
電子ビーム励起プラズマによるSiNエッチング
ALD量産技術：センシングとプロセス制御
プロセス圧に同期させたQCMセンサーヘッドのバックプレッシャー制御
アドバンス連続フロー成膜（ASFD）のTiONプロセスでの酸素結合のメカニズム
ALD量産技術：高速ALD
High-kフィルム用のパージフリー高速ALD
H2O, O3, 酸素プラズマを利用した大気圧下での酸化膜の空間的ALD
ALD量産技術：ロール２ロール
媒体端部バリア層のための大気圧ロール２ロール空間的ALD
フレキシブルデバイス用多目的ロール２ロール空間的ALDの量産機
ALEワークショップ: ALE用面白い新規用途
ALEによる縦方向ナノワイヤーの分裂
金属構造のプラズマALE
＜終＞
