2018/03/13 / 最終更新日時 : 2018/03/13 ALD_Japan 未分類 Kurt Lesker社のALD用特許 Kurt J. Lesker社が特許を取得したとの発表がありました。特許番号：9,695,510 キャリアガス(N2またはAr)を天板の端から投入し続けることで、天板の中心部から投入されたプリカーサーが周辺に回り込まない […]
2018/02/17 / 最終更新日時 : 2018/02/17 ALD_Japan 未分類 ctechnano社 2月15日nanotech2018展でALDに関して講演していたALD装置メーカーctechnano社 CEO Ms. Mercedes Vila Juarez, Ph.D よりカタログを頂戴しましたので、アップ致します […]
2018/01/10 / 最終更新日時 : 2018/01/10 ALD_Japan 未分類 セミナー紹介「最先端プラズマプロセス：未来への挑戦」 東北大学寒川先生たちがプラズマに関して講演会を開催し、その中でALDなども取り上げられます。 日時: 2018年1月26日(金曜)〜27日（土曜） 1/26: 13:00〜16:50, 1/27: 9:30〜12:00 […]
2018/01/10 / 最終更新日時 : 2018/01/10 ALD_Japan 未分類 セミナー紹介「ドライエッチング技術の基礎と表面反応の制御 および最新技術動向とＡＬＥ」 ラムリサーチの野尻様がセミナーをされます。 日時: 2018年1月31日(水曜) 10:00〜17:00 場所: 東京・品川区大井町 きゅりあん 6F 中会議室 講師: ラムリサーチ(株) 取締役・CTO 野尻 一男 氏
2017/12/16 / 最終更新日時 : 2018/01/08 ALD_Japan 未分類 Semiconジャパン2017 セミコンジャパン2017、12月13日から15日東京ビッグサイトで開催されました。ALD関連の展示について記載します。（下記は私見であり、全てのブースを確認したわけではありません。） 総括しますと、半導体好景気を受けて東 […]
2017/11/30 / 最終更新日時 : 2017/11/30 ALD_Japan 未分類 記事紹介 ダイヤモンドデバイスMOSFET 金沢大学 准教授 徳田規夫氏 反転層型ダイヤモンドMOSFETの動作確認を世界で初めて実証された記事でALDについて言及されているので、ご紹介させて頂きます。 （日経テクノロジーon lineへの登録が必要です。）
2017/09/21 / 最終更新日時 : 2017/09/21 ALD_Japan 未分類 セミナー紹介「原子層堆積法（ALD）の原理，反応機構と製膜技術」 日時: 2017年9月25日(火曜) 10:00〜17:00 場所：五反田・技術情報協会セミナールーム 講師: 霜垣先生（東大），廣瀬先生（山形大），座間氏（アルバック） http://www.gijutu.co.jp/ […]
2017/09/20 / 最終更新日時 : 2017/09/21 ALD_Japan 未分類 国内ALD装置メーカーについて 日本の装置メーカーによるALDの取り組みは、東京エレクトロンさん、日立国際さんやASMさんの開発部隊の方のような世界的なプレーヤーが牽引してきましたが、先端半導体のような情報は表に出てこないため、見えづらいものがあったか […]
2017/08/31 / 最終更新日時 : 2017/08/31 ALD_Japan 未分類 兵庫県立大学豊田紀章先生 ガスクラスターイオンビームによるALE 兵庫県立大学豊田紀章先生 イノベーション・ジャパン展にご出展されていた豊田先生の発表資料のアップロードをご許可いただいたので、添付します。 20170831 兵庫県立大学豊田紀章先生 ALE w GCIB
2017/08/19 / 最終更新日時 : 2017/08/19 ALD_Japan 未分類 真空学会・表面科学会の合同シンポジウム「原子層堆積法(ALD)・原子層エッチング法(ALE)の最前線」 2017年真空・表面科学合同講演会 ＠横浜市立大学 金沢八景キャンパス（8月18日（金曜）） の合同シンポジウムのタイトルをメモしておきます。 「原子層堆積法(ALD)・原子層エッチング法(ALE)の最前線」 ①霜垣幸浩 […]
