2020/07/08 / 最終更新日時 : 2020/07/08 ALD_Japan ALD 国際学会 ALE JVST A 2019 Best ALD Paper 2019年10月に発表されたのですが、芝浦工業大学の前田瑛里香氏(清野肇研究室、共同研究機関:物質・・材料研究機構)が Journal of Vacuum Science & Technologyの昨年のベストペ […]
2020/03/24 / 最終更新日時 : 2020/03/24 ALD_Japan 半導体 ALD-Pt成膜によるCu-Cu接合の低温化と接合強化 Anric Technologies社製AT-400を使ったご研究の内容を早稲田大学水野潤教授のチーム(桑江博之助教(当時))より頂戴しましたので、記載します。面白いのはCu表面に選択的にALD成膜をしてPtを付けている […]
2019/12/17 / 最終更新日時 : 2019/12/17 ALD_Japan 半導体 セミコンジャパン2019 12月11日〜13日まで開催されたセミコンジャパンを訪問しました。新規な内容があまり目につくことのないというのが正直な感想ですが、ALDに関して目についたことを記載します。 バルブに関してSwagelok社より大容量タイ […]
2019/10/25 / 最終更新日時 : 2019/10/25 ALD_Japan セミナー シンポジウム紹介「原子層プロセス技術の基礎と応用」 MNC2019で、ALDやALEに関するシンポジウムが開催されます。 日時: 2019年10月28日(月曜) 13:00〜17:00 場所: 広島国際会議場 B2F コスモス1 プログラム13:00~13:05 「開会の […]
2019/02/01 / 最終更新日時 : 2019/05/27 ALD_Japan 半導体 物質・材料研究機構のALD研究 nanotech2019展にて弊社のお客様である塚越先生と生田目先生よりALDを使ったDRAMキャパシタや強誘電体製造プロセスの資料を頂きました。掲載致します。Al2O3, TiO2, RuO2, ZrO2, HfO2, […]